판매용 중고 INNOMAX Astro 1043 #293813083

INNOMAX Astro 1043은 반도체 산업의 정확한 마이크로 패브레이션 프로세스를 위해 설계된 고도로 전문화 된 etcher/asher 장비입니다. 이 고급 장비 (Advanced Equipment) 는 다양한 기능과 기능을 제공하여 대용량 운영 환경뿐만 아니라 연구/개발 (Research and Development) 시설에도 적합합니다. 아스트로 1043 (Astro 1043) 의 핵심에는 기판 표면에서 재료를 선택적으로 제거하기 위해 가스와 RF 전력의 조합을 활용하는 정교한 플라즈마 에칭 챔버 (plasma etching chamber) 가 있습니다. 이 과정 은 "실리콘 웨이퍼 '와 반도체 제조 에 사용 되는 다른 종류 의 기판 에 복잡 한 무늬," 트렌치', 구조 를 만드는 데 필수적 이다. 이 시스템에는 고출력 RF 발전기 (HF Generator) 가 있어 챔버 내부에 플라즈마를 만들고 유지하는 데 필요한 에너지를 제공합니다. "가스 '유속, 압력 및 온도 와 같은" 플라즈마' "파라미터 '의 정확 한 제어 는 전체 기판 표면 에 균일 한" 에칭' 을 보장 해 준다. 이 제어 수준은 현대 반도체 제작 공정에 필요한 치수 정확도 (dimensional accuracy) 와 반복성 (repeatability) 을 달성하는 데 중요합니다. INNOMAX Astro 1043 에는 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 화학 물질 중에서 선택할 수있는 다양한 가스 전달 시스템이 장착되어 있습니다. 이러한 유연성을 통해 단위는 다양한 재료와 공정 요구사항을 수용할 수 있으며, 포토레시스트 스트리핑 (photoresist stripping), 산화물 에칭 (oxide etching), 금속 패턴화 (metal patterning) 등 다양한 응용 분야에 적합합니다. 기계의 고급 endpoint 감지 기능은 성능과 효율성을 더욱 향상시킵니다. 광학 방출 신호 (optical emission signal) 나 가스 흐름 속도 (gas flow rate) 와 같은 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하면 원하는 에치 깊이 (etch depth) 나 끝점 (endpoint) 에 도달한 시점을 정확하게 확인할 수 있습니다. 이 기능은 과잉 식각 (over-etching) 을 최소화하고 기판을 최고 수준의 정밀도 및 수율로 처리합니다. 처리량 및 자동화 측면에서 Astro 1043은 효율성 및 생산성 극대화를 위해 설계되었습니다. 에셋은 하중 잠금 메커니즘 (load lock mechanism) 을 특징으로하며, 기판을 챔버 안팎으로 빠르고 쉽게 전송할 수 있으며, 주기 시간을 줄이고, 전체 처리량을 증가시킵니다. 또한, 이 모델을 로봇 처리 장비 (robotic handling equipment) 와 통합하여 여러 기판을 완전히 자동화하여 생산 워크플로를 더욱 간소화할 수 있습니다. 이 시스템의 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 와 소프트웨어 제어 장치 (software control unit) 는 프로세스 매개변수와 설정을 직관적으로 제어하는 연산자를 제공합니다. 사용자 지정 가능한 레시피 관리 (recipe management) 기능을 통해 여러 애플리케이션에 적합한 프로세스를 손쉽게 최적화, 복제하여 일관된 결과를 얻을 수 있으며 설정 시간을 단축할 수 있습니다. 전반적으로 INNOMAX Astro 1043은 반도체 에칭 및 애싱 응용 프로그램을위한 최첨단 솔루션을 나타냅니다. 첨단 기능, 정밀 제어 (precision control), 자동화 기능을 통해 반도체 제작에서 최고 수준의 성능과 품질을 달성하고자 하는 연구, 개발, 생산 시설에 없어서는 안 될 도구입니다.