판매용 중고 HITACHI M 501AW #9142682

HITACHI M-501AW는 반도체 웨이퍼의 정밀 에칭 및 재싱을 위해 설계된 에처/애셔입니다. 빠른 속도에서 에칭 (ech) 할 수 있으며, 뛰어난 반복성으로 단단히 허용됩니다. M-501AW 는 최첨단 기술을 활용하여 웨이퍼 품질을 보장하며 HF 및 플라즈마 기반 에칭 기술 모두에서 사용할 수 있습니다. HITACHI M-501AW 는 여러 프로세스 입구 및 콘센트, 고밀도 처리 기능, 유연한 제어 시스템, 최적의 가스 제어 기능을 갖추고 있습니다. M-501AW는 플랫 또는 대형 개방형 3D 프로세스 스테이션에서 에칭 할 수 있습니다. 이식 패턴의 위치 정확성과 반복성을 보장하는 트랙 잠금 위치 (Track-Locking Position) 를 갖춘 고정밀 자동 로딩 및 웨이퍼 언로드가 특징입니다. HITACHI M-501AW 의 가스 제어 (gas control) 기술을 통해 가스 흐름을 최소화하고 다양한 프로세스 가스를 정확하게 동적으로 제어할 수 있습니다. M-501AW는 각 에칭 단계에서 여러 가스를 제어 할 수 있으므로 더 정확한 에칭 프로세스를 허용합니다. HITACHI M-501AW는 안정적이고 효과적인 애셔로 설계되었습니다. 최첨단 기술은 높은 처리량, 낮은 오염 및 뛰어난 균일성을 보장합니다. 또한 첨단 진공 시스템 (Advanced Vacuum System) 은 스틱의 위험을 최소화하고 에칭 중 입자 수준이 매우 낮습니다. M-501AW의 플라즈마 에칭 사전 청소 단계는 또한 먼지 수준을 줄이고 프로세스 반복성을 향상시키는 데 도움이됩니다. HITACHI M-501AW는 또한 매우 높은 정밀 애셔입니다. 자동 애싱 (automated ashing) 프로세스는 에치 깊이가 매번 정확하고 반복 가능하도록 보장합니다. 심해 (deep etching), BEOL (back end of line) 처리, 종횡비가 높은 패턴화 등 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. M-501AW 는 또한 저전력 소비와 가스 소비를 줄이고 안전을 개선하는 고급 가스 관리 시스템 (Advanced Gas Management System) 을 통해 친환경적으로 설계되었습니다. 전반적으로, HITACHI M-501AW 는 다양한 애플리케이션에서 정확하고 반복 가능한 프로세스를 위해 설계된 고급 에칭 및 애셔 머신입니다. 이 제품은 자동화, 정확성, 효율성을 갖추고 있어 모든 유형의 반도체 웨이퍼 (wafer) 에칭 및 애싱 (ashing) 요구 사항에 이상적인 솔루션이 됩니다.