판매용 중고 HITACHI M 308 #9271719

HITACHI M 308 etcher/asher는 반도체 장치 개발 및 생산에 사용하도록 특별히 설계된 고성능 에칭 및 애싱 장비입니다. 최신 자동 프로세스 제어 및 모니터링 시스템 (Automated Process Control and Monitoring Systems) 이 장착되어 있어 안정성이 높고 효율적입니다. 이 "시스템 '은 완전 히 통합 된 에칭' 및" 애싱 '장치 로서 "실리콘 웨이퍼'," 갈륨 비소 '기판 및 기타 기판 들 과 같은 광범위 한 기질 을 처리 할 수 있다. 단일 플랫폼에서 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 작업을 모두 수행할 수 있으며, 처리량이 높고 표면 균일성이 뛰어납니다. 이 기계에는 고정밀 에칭 및 애싱 챔버, 가스 순환기/샤워 챔버, 기판 웨이퍼 캐러셀 도구 등 고급 정밀 장비가 장착되어 있습니다. 에칭 챔버 및 순환기/샤워 챔버에는 AGS (Automatic Gas Supply) 에셋이 있으며, 이를 통해 사용자는 가스 공급을 매우 정확하게 제어 할 수 있습니다. 에처/아저 (etcher/aser) 모델은 또한 정교한 기판 추적 장비를 특징으로하며, 에칭 및 애싱 프로세스 중 기판의 상태를 자동으로 확인하고 이상이나 오류를 보고합니다. 시스템의 온도 조절 장치 (Temperature Control Unit) 는 프로세스 전체에서 원하는 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 온도를 유지하는 반면, 가스 전달 기계는 원하는 진공 수준 (etching rate) 을 선택할 수 있습니다. 이 도구에는 고급 이미지 처리 에셋 (advanced image processing asset) 이 장착되어 있으며, 에칭 및 애싱 프로세스 전후에 기판을 분석 및 평가할 수 있습니다. 이 기능을 통해 사용자는 각 기판 재료에 대해 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 속도를 최적화할 수 있습니다. HITACHI M-308 은 안정적이고, 효율적이며, 자동화된 모델로, 다양한 기판 재료를 처리할 수 있습니다. 자동화된 프로세스 제어 및 모니터링 시스템 (Automated Process Control and Monitoring Systems) 은 사용이 쉽고 안정성이 높은 반면, 고급 기능과 유연한 기판 처리 장비는 반도체 장치 제작을 위한 완벽한 선택입니다.