판매용 중고 GD SEMI 808 ATE #293831229

GD SEMI 808 ATE는 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 다양성이 뛰어난 이 도구는 다양한 재료를 에칭 (etching), 클리닝 (cleaning), 서피스 수정 (surface modification) 을 위한 다양한 기능을 제공합니다. 808 ATE 는 작은 설치 공간을 갖춘 컴팩트한 디자인으로, 공간이 제한된 클린 룸 (cleanroom) 환경에 적합합니다. 이 제품은 로봇 웨이퍼 처리 (robotic wafer handling) 및 프로세스 제어 소프트웨어 (process control software) 를 포함한 고급 자동화 기능을 갖추고 있어 처리량이 높고 프로세스 균일성이 향상됩니다. GD SEMI 808 ATE의 주요 특징 중 하나는 고급 플라즈마 생성 시스템 (Advanced Plasma Generation System) 으로, 고주파 RF 전력과 반응성 가스의 조합을 활용하여 고이온화 된 플라즈마를 만듭니다. 이 "플라즈마 '는" 웨이퍼' 의 표면 을 에치 하거나 재 를 뽑는 데 사용 되는데, 그 재료 를 선택적 으로 그리고 매우 정밀 하게 제거 한다. "플라즈마 '의 근원 은 조정 이 가능 하여" 이온' 의 "에너지 '와 밀도 를 정밀 히 제어 할 수 있으며, 그 결과 광범위한" 응용프로그램' 을 위한 뛰어난 공정 조절 과 최적화 가 이루어진다. 이 장치는 또한 고정밀 가스 전달 머신 (high-precision gas delivery machine) 을 갖추고 있어 유속 (flow rate) 과 공정 가스의 혼합을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이것은 복잡한 에치 화학 물질에 대해서도 일관되고 예측 가능한 프로세스 결과를 보장합니다. 이 도구 는 염소, "플루오린 ', 산소 등 여러 가지" 가스' 를 처리 할 수 있어서, 다양 한 "에칭 '과" 애싱' 과정 에 적합 하다. 808 ATE에는 고효율 펌핑 에셋 (pumping asset) 이 장착되어 있어 프로세스 챔버를 신속하게 대피시켜 원하는 프로세스 압력을 달성하고 유지합니다. 이를 통해 프로세스 주기 내내 빠른 플라즈마 점화 및 안정적인 작동이 보장됩니다. 이 모델은 또한 고급 엔드포인트 감지 기능 (advanced endpoint detection capability) 을 제공하여 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 에치/애쉬 깊이를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 고급 프로세스 기능 외에도, GD SEMI 808 ATE는 사용 편의성과 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 이 장비는 직관적인 소프트웨어 제어 기능을 갖춘 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 통해 운영자가 쉽게 프로세스를 설정하고 모니터링할 수 있습니다. 또한 기본 제공되는 진단 유틸리티 (diagnostics) 와 사전 예방 유지 관리 루틴 (maintenance routine) 을 통해 최적의 유닛 성능과 가동 시간을 보장합니다. 전체적으로 808 ATE는 최첨단 etcher/asher 머신으로, 고급 프로세스 기능, 높은 처리량 및 뛰어난 신뢰성을 제공합니다. 컴팩트한 디자인, 고급 자동화 기능, 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 갖춘 이 툴은 효율성이 극대화된 고품질 프로세스 결과를 얻고자 하는 반도체 제조 설비에 적합합니다.