판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS System #293749801

GASONICS/NOVELLUS Equipment (종종 etcher 또는 asher GASONICS System이라고도 함) 는 집적 회로 제작에서 에칭 및 청소 프로세스에 사용되는 고급 도구입니다. NOVELLUS Unit은 GASONICS 및 NOVELLUS Systems에서 개발 한 혁신적인 기술을 통합하여 반도체 장비 산업의 선도적 인 제조업체로 에칭 및 애싱 어플리케이션의 높은 정확성과 효율성을 제공합니다. 기계 는 "플라즈마 에칭 '과" 애셔' 기법 을 기초 로 작동 하는데, 이것 은 반도체 "웨이퍼 '의 표면 에서 물질 을 제거 하기 위해 반응성 있는" 가스' 와 "플라즈마 '를 사용 하는 것 과 관련 이 있다. 이러 한 과정 은 "웨이퍼 '표면 에 복잡 한" 패턴' 과 구조 를 만드는 데 필수적 이며, 현대 반도체 장치 의 개발 에 중요 하다. GASONICS/NOVELLUS Tool의 주요 구성 요소에는 공정 챔버, 가스 전달 GASONICS 자산, RF 전원, 진공 NOVELLUS 모델 및 제어 인터페이스가 포함됩니다. 공정 챔버 (process chamber) 는 웨이퍼가 에칭 (etching) 또는 애싱 (ashing) 과정을 거치는 곳이며, 플라즈마 생성에 도움이 되는 통제 된 환경을 유지하도록 설계되었습니다. 가스 전달 장비 (Gas Delivery Equipment) 는 챔버에 반응성 가스를 도입하여 플라즈마와 상호 작용하여 에칭 또는 애싱 반응을 촉진합니다. RF 전원은 챔버 내에서 플라즈마를 만들고 유지하는 데 필요한 에너지를 제공합니다. 특정 주파수 및 전력 수준에서 RF 전력을 적용함으로써 GASONICS/NOVELLUS System은 플라스마의 강도와 균일성을 제어하고, 에칭 (etching) 또는 애싱 속도 (ashing rate) 및 선택성에 영향을 줄 수 있습니다. 진공 가소 닉스 유닛 (Vacuum GASONICS Unit) 은 챔버가 플라즈마 안정성 및 공정 제어에 중요한 원하는 압력 수준에서 유지되도록 보장합니다. NOVELLUS Machine (NOVELLUS Machine) 의 제어 인터페이스를 통해 운영자는 에칭 또는 애싱 프로세스 매개변수를 실시간으로 프로그래밍하고 모니터링 할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 연산자는 원하는 가스 흐름 속도 (gas flow rate), RF 전원 설정 (power settings), 프로세스 시간 (process times) 및 기타 변수를 설정하여 원하는 에치 프로파일과 재료 제거 속도를 달성할 수 있습니다. 공구 (Tool) 의 주요 장점 중 하나는 높은 공정 반복성과 균일성으로, 반도체 제조에서 엄격한 공정 제어를 달성하는 데 필수적입니다. GASONICS/NOVELLUS Asset에는 고급 센서 및 모니터링 (Monitor) 기능이 장착되어 있어 웨이퍼 배치에 걸쳐 일관된 성능을 보장하며, 에치 깊이와 크리티컬 치수의 변형을 최소화합니다. 또한, GASONICS Model (GASONICS Model) 은 높은 수준의 프로세스 유연성을 제공하여 에칭 및 애싱 레시피를 사용자 정의하여 광범위한 재료 및 장치 설계를 수용할 수 있습니다. 이러한 다재다능성으로 인해 NOVELLUS Equipment는 대량 생산 환경뿐만 아니라 연구 및 개발 활동에 적합합니다. 결론적으로, System은 반도체 업계의 에칭 (etching) 및 애셔 (asher) 애플리케이션을 위한 최첨단 솔루션입니다. 최첨단 플라즈마 기술과 정교한 제어 기능을 활용하여 GASONICS/NOVELLUS Unit (GASONICS/NOVELLUS Unit) 을 통해 반도체 제조업체는 최신 반도체 장치 제조에 중요한 정확하고 안정적인 재료 제거 프로세스를 달성 할 수 있습니다.