판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS PEP 3510A #9146555
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ID: 9146555
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1995
Asher, 8"
Cassette Interface:
(2) ASYST Integrated SMIF
Wafer handler: Dual blade
Model: XU-RCM4700 rev 2
Left module:
Model: PEP 3510A (L)
Configuration: 95-0481
Power: 208 V, 60 Hz, 30 A, 1 Phase / WYE
Source / Process kit type: Quartz
Platen type: Standard
Power supplies:
MWave PS: AGL C13170 (1250W)
Left module gas configuration:
Gas Flow (sccm) MFC Mfgr MFC Model
O2 4000 TYLAN FC-2900MEP
N2 200 TYLAN FC-2900MEP
N2H2 4000 TYLAN FC-2900MEP
Right module:
Model: PEP 3510A (R)
Configuration: 95-0482
Power: 208 V, 60 Hz, 30 A, 1 Phase / WYE
Source / Process kit type: Quartz
Platen type: Standard
Power supplies: MWave PS: AGL C13170 (1250W)
Right module gas configuration:
Gas Flow (sccm) MFC Mfgr MFC Model
O2 4000 TYLAN FC-2900MEP
N2 200 TYLAN FC-2900MEP
N2H2 4000 TYLAN FC-2900MEP
Power: 208 V, 50 Hz, 150 A, 1 Phase / WYE
1995 vintage.
GASONICS/NOVELLUS PEP 3510A는 고정밀 에칭 및 표면 수정이 가능한 고급 에치/애쉬 도구입니다. 단일 플랫폼에서 에칭 (etching) 및 서피스 수정 (surface modification) 을 모두 지원하는 통합 다중 단계 프로세스 도구입니다. 이것은 단일 가스 라인 (single gas line) 과 미세 간격 전극 배열 (fine-spaced electrrode array) 과 다양한 전력 수준 및 화학 조합을 사용하여 달성됩니다. 이 도구는 특히 어려운 3D 메모리 및 스택 장치 응용 프로그램의 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. GASONICS PEP 3510A 는 최고 100 Wafer/hour 의 최고의 속도를 제공하며, 이는 웨이퍼 당 10 초 미만의 프로세스 시간으로 변환됩니다. 또한, 플랫폼은 얕은 에치 깊이 (etch depth) 에서 6 미크론 (micron) 이상까지 광범위한 프로세스 범위를 허용하며 프로세스 반복성 및 정밀도를 매우 엄격하게 제어합니다. 결과적으로, etch/ash 도구는 다중 레이어 깊이 구조, 하단 측면 벽 패턴 및 FinFET을 갖춘 장치에 적합합니다. 이 도구는 4 밸런스 전극 어레이, 내장 커패시턴스 마노미터, 분광학 등급 디지털 질량 흐름 컨트롤러 등 다양한 고급 기능과 옵션으로 설계되었습니다. 이를 통해 프로세스 제어, 정확한 화학 전달 및 온도 조절이 가능합니다. NOVELLUS PEP 3510A는 염소, 브로민, 플루오린화, 산화제 등 다양한 화학 물질을 처리 할 수 있으며, 사용자는 특정 적용에 따라 프로세스를 사용자 정의 할 수 있습니다. 또한 PEP 3510A에는 여러 입력 및 출력이 포함된 분산 전원 공급 장치가 포함됩니다. 이를 통해 프로세스 반복성과 정확성을 더욱 보장할 수 있습니다. 결론적으로, GASONICS/NOVELLUS PEP 3510A는 다양한 기능과 옵션을 통합 한 고급 고속 에치/애쉬 (etch/ash) 툴로, 엄격한 프로세스 제어, 정확한 화학 전달 및 뛰어난 반복성을 보장합니다. 결과적으로, GASONICS PEP 3510A는 3D 메모리 및 스택 장치 어플리케이션에 도전하는 신뢰할 수 있는, 고정밀 에칭 및 표면 수정 솔루션을 찾는 사용자에게 적합합니다.
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