판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS L 3510 #9308469

GASONICS/NOVELLUS L 3510은 반도체 산업 내에서 광범위한 웨이퍼 처리 응용 분야에 사용되는 고속 에처 및 애셔입니다. 이 장비는 APCVD (atmospheric pressure chemical vapor deposition) 및 SPRE (sequential plate rotary etching) 와 같은 고급 기술을 사용하여 고속 웨이퍼를 처리합니다. GASONICS L 3510은 실리콘 웨이퍼에 산화물, 질화물, 폴리 실리콘 코팅 증착, 복잡한 패턴 및 구조 에칭, 웨이퍼 표면에서 원치 않는 물질 제거 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. NOVELLUS L 3510은 고속 성능과 안정적인 작동을 제공합니다. 이 시스템은 시간당 최대 50 개의 웨이퍼 (wafer) 의 작동 속도를 가지며 최대 6 개의 개별 챔버를 제어 할 수 있습니다. 또한 다양한 직경 (8 "~ 12") 의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 자동 챔버 제거 (chamber purging) 및 액체 관리 (liquid management) 기능을 제공하여 깨끗한 작업 환경과 일관된 결과를 보장합니다. 이 장치에는 견고한 로봇 암 (Robotic Arm) 과 모션 컨트롤 머신 (Motion Control Machine) 이 장착되어 있어 에칭 및 애싱 프로세스를 빠르고 정확하게 보정할 수 있습니다. L 3510은 울트라 바이올렛, 전자 빔 리소그래피, 시퀀싱 된 가스 소개, 플라즈마 소스 기술 등 다양한 고급 도구와 기술을 사용합니다. 이 도구는 안전한 작업 환경을 보장하기 위해 고급 안전 기능 (예: 자동 소프트웨어 보호) 을 갖추고 있습니다. 또한, 사용자는 프로세스 매개변수 (process parameter) 와 운영 매개변수 (production parameter) 를 실시간으로 모니터링하여 프로세스를 최적으로 제어할 수 있습니다. GASONICS/NOVELLUS L 3510은 반도체 제조업체에 몇 가지 이점을 제공합니다. 첨단 프로세스 제어 (process control) 기능과 고속 성능을 통해 주기 (cycle) 와 수율을 향상시켜 생산성을 높이고 수율을 높일 수 있습니다. 또한, GASONICS L 3510에는 고급 안전 기능이 장착되어 있어 안전한 작업 환경을 보장합니다. 또한, 이 자산은 TCO (총소유비용) 가 낮으며 높은 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 결론적으로, NOVELLUS L 3510은 최첨단 에처이며 반도체 산업에 이상적입니다. 고속, 신뢰성 있는 모델은 다양한 기능과 기능을 제공하며, 최대 6 개의 챔버를 제어할 수 있습니다. L 3510은 신뢰성이 높고 비용 효율적이며, 향상된 주기 (cycle time) 와 수율을 제공하여 반도체 제조업체에 적합한 선택입니다.