판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS L 3510 #9244581

GASONICS/NOVELLUS L 3510 etcher/asher는 고급 기술 제조업체의 에칭/애싱 요구를 충족하도록 설계된 고성능, 비용 효율적인 도구입니다. GASONICS Systems 및 NOVELLUS와 제휴하여 개발 된 3510은 단일 플랫폼에서 고급 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 기술을 결합하여 가장 고급적이고 정교한 반도체 장치의 높은 처리량과 안정적인 처리를 지원합니다. 3510은 정확하고 균일 한 에칭을 제공하는 고급 RF 에치 기술을 사용합니다. 이 과정은 에치 바이어스 (etch bias) 의 스테퍼 모터 조정으로 더욱 향상되어 0.5 나노 미터의 정확성과 반복 성을 가진 1 나노 미터 미만의 에치를 허용합니다. 또한, 3510은 50 ~ 300mm 크기의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 최대 12.7 인치 또는 320mm 크기의 프로세스 기능을 제공합니다. 또한, 3510 은 "반도체 '표면 에서 공정 잔기 를 제거 하여 유해 한 화학제 의 필요성 을 제거 하는 발작 과정 을 제공 한다. 이 장치는 심도, 표적 에칭 및 애싱을 위해 열적으로 개선 된 플라즈마 프로세스를 사용합니다. 이 프로세스는 직관적인 GUI 인터페이스를 사용하여 쉽게 제어할 수 있으며, 간단한 설치/런타임 (run-time) 방법 계산을 제공합니다. 이 장치는 또한 고급 가스 전달 시스템 (Advanced gas delivery system) 을 갖추고 있으며, 우수한 가스 제어 (gas control) 및 유해한 화학 물질의 균일 한 전달과 독점 첨가제 포함을위한 자동주기를 가능하게하는 화학 인젝터 (chemical injector) 를 제공합니다. 또한, 3510에는 일반 진공 시스템 (general vacuum system) 이 제공되며, 구성 가능한 가스 분포 매니 폴드와 신뢰할 수있는 펌핑 시스템이 있습니다. GASONICS L 3510 etcher/asher는 사용자 친화적 인 제어로 매우 자동화되어 있어 에칭 및 애싱 (ashing) 작업에 이상적인 도구입니다. 이 장치는 단일 (Single) 및 3- 챔버 (Three-Chamber) 구성으로 제공되며, 다양한 옵션과 구성을 제공하므로 다양한 반도체 구성 응용 프로그램에 적합합니다. 혁신적인 디자인, 뛰어난 성능, 신뢰성을 갖춘 3510은 고급 반도체 제조에 이상적인 도구입니다.