판매용 중고 GASONICS / NOVELLUS A 2000LL #293595026

GASONICS/NOVELLUS A 2000LL은 고급 반도체 제조를 위해 설계된 고성능 에처/애셔입니다. 고급 플라즈마 에칭 (Plasma Etching) 및 애싱 (Ashing) 기술을 사용하여 다양한 종류의 재료를 높은 수준의 정확도로 제어 및 에칭할 수 있습니다. 이 장치 는 강력 한 마그네트론 (마그네트론) 을 이용 하여 여러 종류 의 물질 을 "에칭 '하고" 애쉬' 하는 데 매우 효율적 인 고에너지 혈장 을 만든다. 매개변수를 정확하게 제어하기위한 고급 제어 알고리즘 (advanced control algorithm) 은 최소한의 프로세스 변화, 반복성 및 향상된 수율을 보장합니다. 원하는 에칭 및 애싱 결과를 얻기 위해 GASONICS A 2000LL은 고급 2 챔버 시스템 (Advanced 2-chamber system) 을 사용하여 에칭 및 애싱에서 높은 수준의 균일성과 정확성을 허용합니다. 이 과정 은 첫 번째 "가스 '에" 에칭' 과 "가스 '를 혼합 하여 도입 함 으로써 시작 된다. 유도 결합 플라즈마 (inductively coupled plasma) 는 가스를 무선 주파수 방사선으로 조사하여 생성되며, 이는 물질을 에치 (etch) 하고 재 (ashing) 하는 데 사용될 것이다. "플라즈마 '는" 에칭 '/" 애싱' 주기 끝 에 비활성화 되고 약실 은 가공 "가스 '를 비운다. 그런 다음, 새로운 에칭 및 애싱 가스를 도입하여 2 차 챔버에서 프로세스가 계속됩니다. 이 장치는 또한 정확한 에칭 및 애싱 성능에 효과적인 열 관리 기술을 사용합니다. 챔버의 경로는 프로세스 균일성과 일관성을 보장하기 위해 온도 조절이 가능합니다. 이 챔버에서 고압 클리닝 사이클이 활성화되어 측면 과다 노출을 줄이는 데 도움이됩니다. 이 장치는 응용 프로그램에 따라 RF 생성기의 주파수와 크기를 조정할 수도 있습니다. 고급 플라즈마 에칭/애싱 기술, 강력한 마그네트론 및 효과적인 열 관리 기술로, NOVELLUS A 2000LL은 다양한 종류의 재료를 높은 수준의 정확도로 에치 (etch) 및 애쉬 (ashing) 하는 뛰어난 장치입니다. 뛰어난 수익률, 프로세스 반복성 및 신뢰성의 상당한 향상을 제공합니다.