판매용 중고 GASONICS L 3510-9 #293814133

GASONICS L 3510-9는 반도체 제조 공정의 정확성과 효율성으로 유명한 고급형 etcher/asher 장비입니다. 이 도구 는 일련의 화학 반응 과 "플라즈마 '공정 을 통해 기판 표면 에서 원치 않는 물질 을 제거 함 으로써 집적 회로, MEMS 장치 및 기타" 마이크로 일렉트로닉' 성분 을 제조 하는 데 중요 한 역할 을 한다. L 3510-9의 핵심에는 챔버 (chamber) 디자인이 있으며, 에칭/애싱 공정의 균일성과 재생성에 최적화되어 있습니다. 챔버에는 산소, CF4 및 SF6과 같은 반응성 가스 플라즈마 (plasma) 를 생성하여 기판 표면을 에치 또는 재로 만드는 고출력 RF 발전기가 장착되어 있습니다. "플라즈마 '는 조정 된 온도 와 압력 에서 유지 되어 정밀 한 물질 제거 를 위한 최적 의 공정 상태 를 보장 한다. GASONICS L 3510-9 (GASONICS L 3510-9) 는 다양한 프로세스 제어 시스템을 통해 사용자가 특정 요구 사항에 맞게 에칭/애싱 레시피를 조정할 수 있도록 합니다. 이 장치에는 실시간 프로세스 모니터링, 레시피 개발, 데이터 분석을 위한 고급 소프트웨어 (software) 기능이 포함된 사용자 친화적 인터페이스가 포함되어 있습니다. 연산자는 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 전원 수준 (power level) 및 처리 시간 (process time) 과 같은 프로세스 매개변수를 쉽게 조정하여 원하는 에치/애쉬 속도 및 선택성을 달성할 수 있습니다. L 3510-9 는 프로세스 제어 (Process Control) 기능과 더불어 운영 중 운영자와 기판 모두를 보호하기 위한 고급 안전 (Safety) 기능을 갖추고 있습니다. 에칭/애싱 프로세스 (etching/ashing process) 동안 생성 된 독성 부산물을 안전하게 제거하기위한 전용 가스 절제 기계가 도구에 통합되어 있습니다. 사고를 예방하고, 안전한 작업 환경을 보장하기 위해 비상 셧다운 (Emergency Shutdown) 메커니즘과 인터 록 (Interlock) 도 마련되어 있습니다. GASONICS L 3510-9 (GASONICS L 3510-9) 는 높은 처리량과 생산성을 제공하도록 설계되어 반도체 제조 설비의 볼륨 생산에 적합합니다. 이 도구는 다중 챔버 설계 및 로봇 웨이퍼 처리 도구 (multi-chamber design and robotic wafer handling tool) 덕분에 여러 웨이퍼를 동시에 처리 할 수 있습니다. 이를 통해 대량 생산 응용 프로그램에 대한 신속한 처리 시간과 일관된 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, L 3510-9는 안정성이 뛰어나며, 견고한 구성 요소와 품질 구성 요소 덕분에 최소한의 유지 보수가 필요합니다. 숙련된 기술자가 정기적으로 예방적 유지 보수 (maintenance) 를 편리하게 수행하여 최적의 성능을 보장하고, 툴의 운영 수명을 연장할 수 있습니다. 요약하면, GASONICS L 3510-9는 반도체 제조 응용 프로그램에 탁월한 정밀도, 효율성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 자산입니다. 고급 프로세스 제어 기능, 사용자 친화적 인터페이스, 안전 기능, 높은 처리량 등을 통해 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 업계의 광범위한 에칭/애싱 (etching/ashing) 프로세스를 위한 다용도 도구입니다.