판매용 중고 GASONICS Aura 1000 #9171308

GASONICS Aura 1000은 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고급형 etcher/asher 장비입니다. 최첨단 장비는 다양한 혁신적인 기술과 기능을 통합하여, 클린 룸 (Clearroom) 환경에서 와퍼 (Wafer) 를 정확하고 효율적으로 처리합니다. 오라 1000 (Aura 1000) 의 핵심에는 플라즈마 에칭 기능이 있으며, 이는 높은 정밀도로 반도체 웨이퍼 표면에서 재료 레이어를 제거 할 수 있습니다. 이 시스템은 반응성 가스 (reactive gase) 와 플라즈마 에너지 (plasma energy) 의 조합을 사용하여 웨이퍼 표면의 특정 영역을 선택적으로 에칭하여 마이크로 일렉트로닉스 제작에 필요한 복잡한 패턴 및 기능을 만들 수 있습니다. GASONICS Aura 1000 (GASONICS Aura 1000) 은 에칭 프로세스 매개변수의 정확한 제어를 위해 대량 흐름 컨트롤러, 가스 혼합 기능 등 다양한 가스 전달 시스템을 갖추고 있습니다. 이 정밀도 수준은 균일 한 에치 레이트 (etch rate) 를 달성하고 여러 웨이퍼에서 프로세스 반복성을 유지하는 데 필수적입니다. 프로세스 유연성을 높이기 위해 Aura 1000은 소형 기판에서 고급 반도체 제조에 일반적으로 사용되는 300mm 웨이퍼 (wafer) 까지 다양한 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있습니다. 이 장치에는 로봇 암 (robotic arm) 이나 카세트 로더 (cassette loader) 와 같은 다양한 웨이퍼 처리 메커니즘이 있어 처리 시퀀스 전반에 걸쳐 효율적인 웨이퍼 로딩 및 언로드가 가능합니다. GASONICS Aura 1000은 에칭 기능 외에도, 에치 후 잔류 제거 및 표면 청소를위한 애셔 머신으로도 기능합니다. 플라즈마 에너지 (plasma energy) 와 반응성 가스 (reactive gase) 의 조합을 사용하여이 도구는 웨이퍼 표면에서 유기 및 무기 잔기를 효과적으로 제거하여 장치 구조의 무결성을 보장하고 전체 장치 성능을 향상시킬 수 있습니다. Aura 1000은 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 통합하여 에칭 및 애셔 프로세스를 최적화합니다. 광학 방출 분광학 (OES) 및 종단점 감지 시스템 (endpoint detection system) 과 같은 실시간 프로세스 모니터링 센서는 프로세스 성능에 대한 피드백을 제공하고 프로세스 매개변수의 동적 조정을 통해 원하는 etch 속도와 endpoint 감지 정확도를 달성합니다. 가장 높은 수준의 프로세스 안전 및 신뢰성을 보장하기 위해 GASONICS Aura 1000에는 다양한 안전 인터 록 (Safety Interlock), 가스 탐지 시스템 및 비상 종료 메커니즘이 장착되어 있습니다. 이러한 기능은 제어 프로세스 환경을 유지하고 플라즈마 처리 (plasma processing) 와 관련된 잠재적 위험 (potential hazard) 을 방지하는 데 필수적입니다. 전반적으로, Aura 1000은 반도체 에칭 및 애셔 어플리케이션을 위한 최첨단 솔루션으로, 고급 반도체 제조 공정을 위한 탁월한 프로세스 성능, 유연성, 신뢰성을 제공합니다. GASONICS Aura 1000 (GASONICS Aura 1000) 은 첨단 기술과 혁신적인 설계를 통해 탁월한 성능과 기능을 갖춘 차세대 반도체 장치를 생산할 수 있는 핵심 도구입니다.