판매용 중고 EVACTRON 25 Zephyr #293818705

EVACTRON 25 Zephyr는 반도체 제조, 연구 및 기타 산업 환경에서 고성능 플라즈마 클리닝 및 표면 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 최첨단 etcher/ascer 장비입니다. 이 첨단 "시스템 '은 혁신적 인 기술 과 믿을 만한 성능 을 결합 시켜, 여러 기질 표면 에서 유기 오염 물질, 탄화수소 및 기타 불순물 을 정밀도 와 효율성 으로 제거 하는 면 에서 우월 한 결과 를 가져다 준다. 25 제퍼 (Zephyr) 의 핵심에는 강력한 플라즈마 소스 (plasma source) 가 있는데, 이는 분자 수준에서 표면을 효과적으로 에치 및 청소 할 수있는 반응성이 높은 산소 플라즈마를 생성한다. 이 플라즈마 소스는 고주파 RF 생성기로 구동되며, 일관된 처리 결과를 위해 안정적이고 균일 한 플라즈마 흥분을 보장합니다. 이 장치는 또한 최첨단 가스 흐름 제어 머신 (state-of-the-art gas flow control machine) 을 갖추고 있어 가스 흐름 속도 및 조성을 정확하게 조절할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 플라즈마 화학을 특정 청소 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다. EVACTRON 25 Zephyr은 다양한 샘플 크기와 모양을 수용하는 다용도 챔버 (versitile chamber) 설계를 갖추고 있으며, 웨이퍼 처리, MEMS 제작, 표면 수정 등 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 이 약실은 스테인레스 스틸 (stainless steel) 이나 알루미늄 (aluminum) 과 같은 고품질 재료로 만들어져 내구성과 화학 부식에 대한 내성을 보장합니다. 이 도구는 또한 안정적인 처리 환경을 유지하고 민감한 기질의 과열 (overheating) 을 방지하기위한 고급 온도 조절 메커니즘을 특징으로합니다. 25 Zephyr의 주요 기능 중 하나는 사용자 친화적 인 인터페이스 (user-friendly interface) 로, 운영자가 손쉽게 터치스크린 제어판을 사용하여 클리닝 프로세스를 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 이 자산은 공통 응용 프로그램을위한 다양한 사전 설정된 클리닝 레시피 (cleaning 레시피) 를 제공하며, 보다 전문화 된 치료를위한 사용자 정의 가능한 매개 변수를 제공합니다. 직관적인 소프트웨어 인터페이스는 또한 플라즈마 파워 (Plasma Power), 가스 흐름 속도 (Gas Flow Rate), 챔버 압력 (Chamber Pressure) 과 같은 주요 프로세스 매개변수에 대한 실시간 모니터링을 제공하여 사용자가 클리닝 성능을 최적화하고 일관된 결과를 얻을 수 있도록 합니다. 안전성과 신뢰성 측면에서 EVACTRON 25 Zephyr에는 과압 및 과잉 보호, 가스 누출 감지, 긴급 종단 시스템 등 여러 가지 내장 안전 기능이 장착되어 있습니다. 이 모델은 또한 전기 안전 (Electrical Safety) 및 전자기 호환성 (Electromagnetic Compatibility) 에 대한 업계 표준을 충족시켜 고도로 규제되는 제조 환경에서 문제 없는 운영을 보장하도록 설계되었습니다. 전반적으로 25 Zephyr은 까다로운 플라즈마 클리닝 및 표면 처리 어플리케이션을 위한 최첨단 솔루션으로, 탁월한 성능, 유연성, 사용 편의성을 제공합니다. 반도체 제작, 연구 실험실, 산업 생산 시설에 사용되든, 이 고급 에처/애셔 (etcher/asher) 장비는 고품질 표면 청결 및 재료 처리 결과를 달성하기위한 귀중한 도구입니다.