판매용 중고 E&R Plasmax-601A #293779281

E&R Plasmax-601A는 반도체, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) 및 연구 응용 프로그램의 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리 할 수있는 고급 플라즈마 에처 및 애셔 장비입니다. 이 다목적 도구는 균일하고 고품질의 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 기능을 제공하도록 설계되어 미세 구조와 나노 구조를 제작하는 데 필수적인 요소입니다. 플라즈맥스 -601A (Plasmax-601A) 는 플라즈마 에칭 (plasma etching) 과 플라즈마 애싱 (plasma ashing) 기술의 조합을 사용하여 플라즈마 방전에 의해 유도 된 화학 반응을 통해 기질 표면에서 물질을 제거한다. 이 시스템에는 공정 챔버에 저압 플라즈마 환경을 만드는 고밀도 플라즈마 소스 (일반적으로 무선 주파수 (RF) 생성기) 가 장착되어 있습니다. 혈장은 이온, 전자, 중성 종, 그리고 표면을 선택적으로 에치하거나 청소하기 위해 기질과 상호 작용하는 라디칼로 구성됩니다. E&R Plasmax-601A의 주요 특징 중 하나는 가스 흐름 속도, 압력, 전원 수준, 프로세스 시간 등 에칭 및 애싱 프로세스 매개변수에 대한 정확한 제어입니다. 이러한 제어 수준 (level of control) 을 통해 사용자는 광범위한 재료 유형과 두께에 대해 매우 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 이 장치는 산소, 질소, 아르곤, CF4와 같은 다양한 가스 옵션을 제공하여 사용자가 특정 응용 요구 사항에 가장 적합한 화학을 선택할 수 있습니다. Plasmax-601A 는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 통해 최적의 성능 및 프로세스 안정성을 보장합니다. 플라즈마 임피던스 (Plasma Impedance), 가스 흐름 속도 (Gas Flow Rate), 압력 (Pressure) 과 같은 주요 매개변수를 실시간으로 모니터링하면 에칭 또는 어싱 프로세스의 진행 상황을 추적하고 필요에 따라 조정할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 자동화된 프로세스 레시피 (process recipe) 와 레시피 스토리지 (recipe storage) 기능을 제공하여 향후 실행을 위해 성공적인 처리 조건을 쉽게 재현할 수 있습니다. 공구의 챔버 디자인 (chamber design) 과 가스 배달 에셋 (gas delivery asset) 은 기판 표면에서 뛰어난 균일성과 재생성을 달성하도록 설계되었습니다. 에치 레이트 (etch rate) 의 변화를 최소화하고 배치 (batch) 에서 배치 (batch) 까지의 일관된 결과를 보장하기 위해 챔버 내의 가스 분배 및 흐름 패턴에 특별한주의를 기울입니다. 또한 E&R Plasmax-601A 에는 에너지가 플라스마에 효율적으로 결합되어 높은 플라즈마 밀도와 향상된 프로세스 성능을 제공하는 안정적인 RF 전원 공급 모델이 포함되어 있습니다. 안전 및 환경 고려 사항에서 Plasmax-601A는 인터 록 (Interlock), 가스 흐름 모니터링 (Gas Flow Monitoring) 및 배기 시스템 (Exhaust System) 과 같은 기능으로 설계되어 운영자 보호를 보장하고 환경에 유해한 부산물을 최소화합니다. 이 장비는 또한 플라즈마 유발 손상 (plasma-induced damage) 과 화학 물질 노출 (chemical exposure) 에 강한 재료로 제작되어 장비의 작동 수명을 연장하고 유지 관리 요구 사항을 줄였습니다. 전반적으로 E&R Plasmax-601A (E&R Plasmax-601A) 는 최첨단 플라즈마 에처 및 애셔 시스템으로 반도체 및 MEMS 업계의 광범위한 어플리케이션에 뛰어난 성능, 프로세스 제어 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 기능, 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface), 안전 메커니즘 (safety mechanism) 은 정확하고 균일한 에칭 및 애싱 결과를 얻기 위해 연구 및 생산 환경에 유용한 도구입니다.