판매용 중고 DNS / DAINIPPON SPW-813AS #293807383

DNS/DAINIPPON SPW-813AS는 반도체 업계의 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리하도록 설계된 고도의 플라즈마 에처/애셔 (plasma etcher/asher) 장비입니다. 이 도구는 포토-레지스트 스트립핑 (photo-resist stripping), 데슘 (descum), 플라즈마 클리닝 (plasma cleaning), 웨이퍼 및 기판의 유기 및 무기 재료 에칭 등의 응용 분야에 대한 연구 및 생산 환경에 널리 사용됩니다. DNS SPW-813AS (DNS SPW-813AS) 는 고밀도 플라즈마를 사용하여 건식 에칭 (dry etching) 이라는 프로세스를 통해 기판 표면에서 원치 않는 물질을 제거합니다. 이 기술은 습식 에칭 방법에 비해 에치 (etch) 공정에 대한 높은 선택성, 균일성 및 제어를 제공하기 때문에 반도체 제조에서 선호됩니다. 이 시스템은 고급 기능 (Advanced Features) 과 기능 (Features) 을 갖추고 있어 광범위한 애플리케이션에 대해 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. DAINIPPON SP-W813-AS 의 주요 기능 중 하나는 고급 RF 플라즈마 생성 장치 (Plasma Generation Unit) 로, 일관된 에칭/어싱 결과를 위한 안정적이고 안정적인 플라즈마 성능을 제공합니다. 이 기계에는 여러 개의 가스 입력 라인 (gas input line) 과 질량 흐름 컨트롤러 (mass flow controller) 가 장착되어 있어 가스 흐름 속도, 압력, 조성 등 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 에칭 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 조정하고 원하는 에치 속도 (etch rate) 및 선택성 (selectivity) 을 달성할 수 있습니다. DAINIPPON SPW-813AS에는 기판 표면에 균일 한 플라즈마 분포를 보장하는 고속 웨이퍼 척 (wafer chuck) 도구가 장착되어 있습니다. 이 기능은 웨이퍼 전체에 균일 한 에치 레이트 (etch rate) 와 에치 깊이 (etch depth) 를 달성하는 데 필수적이며, 이는 반도체 제조에서 장치 성능 및 수율을 보장하는 데 중요합니다. 이 자산에는 여러 유형의 재료 및 응용 프로그램에 대한 프로세스 성능을 최적화하는 온도 조절 (temperature control) 기능도 포함되어 있습니다. 또한 DNS/DAINIPPON SP-W813-AS 는 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공하여 프로세스 매개 변수를 쉽게 프로그래밍하고 제어할 수 있습니다. 이 모델에는 플라즈마 파워 (plasma power), 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 온도 (temperature), 압력 (pressure) 과 같은 주요 프로세스 매개변수에 대한 실시간 모니터링을 제공하는 터치 스크린 디스플레이가 장착되어 있습니다. 또한 사용자는 프로세스 레시피를 저장하고 검색하여 손쉽게 반복 및 프로세스 최적화를 수행할 수 있습니다. DNS SP-W813-AS 는 안전성과 신뢰성을 염두에 두고 설계되었으며, 적절한 작동을 보장하고 사고를 방지하는 연동 장비를 갖추고 있습니다. 또한 기본 제공되는 진단 및 유지보수 (maintenance) 툴을 통해 장치 문제 해결을 촉진하고 다운타임을 최소화할 수 있습니다. 전반적으로 SPW-813AS는 다양하고 신뢰할 수있는 플라즈마 에처/애셔 머신 (plasma etcher/asher machine) 으로, 정확하고 효율적인 재료 처리를 달성하려는 반도체 제조업체 및 연구원을위한 고급 기능을 제공합니다.