판매용 중고 DIENER ELECTRONIC plasma prep 5 #293681686

DIENER ELECTRONIC plasma prep 5는 반도체 제조, 연구 실험실 및 기타 첨단 산업에 사용되는 다양한 재료의 정확하고 효율적인 표면 처리를 위해 설계된 다용도 및 고급 플라즈마 에처/애셔 장비입니다. 최첨단 장비는 사용자 정의 가능한 처리 매개변수 (processing parameter), 최적 프로세스 제어 (optimal process control) 및 높은 생산성을 지원하는 혁신적인 기술과 기능을 통합합니다. 플라즈마 준비 5 (Plasma prep 5) 는 고밀도 플라즈마 소스를 사용하여 기질에서 유기 오염 물질, 산화물 층 및 기타 표면 불순물을 효과적으로 제거 할 수있는 반응성 가스 플라즈마를 생성합니다. 이 시스템에는 강력한 진공실, RF 전원 공급 장치, 가스 전달 장치, 제어 장치 (Control Unit) 가 장착되어 있으며, 모두 시너지에서 작동하여 균일하고 반복 가능한 샘플 처리를 위해 안정적인 플라즈마 환경을 만들고 유지합니다. DIENER ELECTRONIC Plasma Prep 5의 주요 특징 중 하나는 컴팩트하고 사용자에게 친숙한 설계로, 기존 프로세스 흐름에 쉽게 작동, 유지 관리, 통합할 수 있습니다. 머신에는 직관적인 매개변수 설정, 실시간 모니터링, 데이터 로깅 (데이터 로깅) 이 가능한 터치스크린 인터페이스 (touchscreen interface) 가 장착되어 있어 프로세스 개발 및 최적화가 간단합니다. 플라즈마 준비 5는 플라즈마 청소, 플라즈마 활성화, 표면 변형 및 실리콘, 유리, 금속, 폴리머, 세라믹과 같은 다양한 재료의 에칭을 포함하여 광범위한 처리 기능을 제공합니다. 이 도구는 등방성 (Isotropic) 및 이방성 (Anisotropic) 에칭 프로세스를 모두 지원하여 종횡비와 서브 미크론 기능이 높은 기질의 정확한 패턴 전달과 나노 구조를 가능하게합니다. 높은 처리량과 낮은 소유 비용으로, DIENER ELECTRONIC Plasma Prep 5는 소규모의 생산 환경, 학술 연구 시설, 시범 회선에 적합하며, 장치의 성능, 안정성, 생산성을 향상시키고자 합니다. 이 자산은 웨이퍼, 칩, 3D 구조 및 MEMS 장치에 이르기까지 다양한 크기와 모양의 기판을 수용 할 수 있으며, 광범위한 어플리케이션을위한 다용도 솔루션입니다. 플라즈마 준비 5 (Plasma prep 5) 에는 과압 및 과잉 온도 보호, 인터 락 및 가스 누출 센서를 포함한 고급 안전 기능이 장착되어 있어 운영자 안전을 보장하고 운영 중 사고를 방지합니다. 이 모델은 또한 CE 및 RoHS 지침 (예: 환경 보호) 에 대한 업계 표준 및 규정을 준수하여 현대 제조 시설에 대한 지속 가능하고 친환경 선택입니다. 결론적으로, DIENER ELECTRONIC plasma prep 5는 광범위한 표면 처리 응용 프로그램에 대한 고성능, 유연성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 플라즈마 etcher/asher 장비입니다. 고급 기능, 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface), 업계 최고의 기능을 갖춘 이 장비는 프로세스를 개선하고, 생산성을 높이고, 자재 처리 및 디바이스 제작 분야에서 탁월한 성과를 거두고자 하는 기업을 위한 귀중한 자산입니다.