판매용 중고 CORIAL 300 iL #9272964

CORIAL 300 iL은 고급 마이크로 및 나노 스케일 장치 구조화에 이상적인 최첨단 드라즈마 에처/애셔입니다. 2 개의 독립적 인 기판의 동시 에칭/결정화를 가능하게하는 독특한 듀얼 빔 아키텍처가 특징입니다. 300 iL은 반도체, 유전체, 저항, 산화물 층 및 태양 전지에서 높은 종횡비 구조화를위한 완벽한 도구입니다. 독특한 듀얼 빔 아키텍처 (dual-beam architecture) 는 2 개의 소스 챔버로 구성되며, 각 챔버는 동일한 진공 챔버에 연결되어 있지만 서로 분리되어 있습니다. 각 소스 챔버에는 다른 소스 가스가 있습니다. 하나는 에칭을위한 것이고, 다른 하나는 결정화를위한 것이고, 그 공정에 따라 다릅니다. 2 개의 가스 소스는 한 쌍의 다단계 고진공 펌프를 통해 펌핑되며, 이는 초고진공 압력 (UHV) 수준을 생성하고 높은 공정 반복성을 보장합니다. CORIAL 300 iL은 RF (Radio Frequency) 생성기를 사용하여 빔의 이온화를 위해 흥분 에너지를 공급합니다. 이 RF 생성기는 안정적이며 프로세스 요구 사항에 따라 고출력 (2kW) 또는 저출력 (400W) 모드로 작동하도록 설정할 수 있습니다. 300 iL (300 iL) 은 소스 가스 조성을 위해 광범위한 작동 범위를 제공하며, 모든 유형의 공정 가스와 함께 사용할 수 있습니다. CORIAL 300 iL에는 에치 타임 (etch time), 반복 가능성 (repeatability) 및 에칭 깊이 (eching depth) 및 피쳐 크기에서 정밀하게 조정 할 수있는 정교한 제어 전자 장치의 고급 장비가 장착되어 있습니다. 기판 테이블 (기판) 과 소스 스테이션 (소스 스테이션) 의 온도는 모두 적절한 수준으로 설정되어 전체 장치 구조에서 정확한 온도 제어를 보장할 수 있습니다. 이로 인해 300 iL은 초박막 증착, 재료 성장 및 확산 프로세스와 같은 프로세스에 적합합니다. 또한 CORIAL 300 iL에는 운영자와 장치의 안전을 보장하는 안전 시스템이 내장되어 있습니다. 비상 사태 가 발생 할 경우, 기계 는 자동적 으로 차단 되고, 진공실 에 남아 있는 모든 재료 는 안전 하게 대피 한 다음, 공구 를 다시 시작 할 수 있게 된다. "깨어라!" 300 iL 은 고급 에칭/구조 응용에 최적의 선택이며, 모든 연구, 개발, 생산 프로세스에 적합합니다. 이 강력한 장치는 뛰어난 반복성과 안정성으로 고정밀 에칭 (eching) 과 결정화 (crystallizing) 를 제공하도록 설계되었으며, 모든 클린 룸 (cleanroom) 시설에 귀중한 추가 기능을 제공합니다.