판매용 중고 CHEMCUT 610 #149017

CHEMCUT 610은 전자 및 반도체 산업에 사용되는 고효율의 중형 CMP (Chemical Mechanical planarization) 장비입니다. 이 시스템은 이산화 실리콘, 질화 실리콘, 저k 유전체를 포함한 유전체의 에칭 및 해시를 위해 특별히 제작되었다. 그것은 최대 330mm의 넓은 필드 크기와 시간당 12 웨이퍼의 처리량을 가지고 있습니다. 610 의 설계를 통해 높은 수준의 정밀도 및 반복성 (repeatability) 을 통해 좋은 평면화를 쉽게 달성할 수 있습니다. 압력 균형 프레임 (pressure-balanced frame) 을 포함한 고급 기능이 있으며, 전체 영역에서 일관된 에칭 깊이를 보장합니다. 우수한 CMP 클리닝을 제공하는 동기화 된 고압 린싱 장치. 또한 CHEMCUT 610 (CHEMCUT 610) 에는 프로세스 정확성을 보장하는 닫힌 루프 제어 머신 (closed-loop control machine) 및 소프트웨어 제품군이 있으며, 이를 통해 고객은 가장 높은 수준의 반복 성과 정확도로 중요한 유전체를 에칭할 수 있습니다. 610 은 사용자 친화적인 운영 및 유지 보수 기능으로 구축되어 다운타임을 줄이고 생산성을 높여줍니다. 직관적 인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 와 유전체 에칭 (Etching) 및 애싱 (Ashing) 모두에 대해 정확한 프로세스 최적화를 가능하게 하는 자동 교정 프로세스가 특징입니다. 또한 2 단계 DI/DI 계단식 여과가 장착되어 깨끗한 공정 액체를 보장하고 오염을 방지합니다. 또한, CHEMCUT 610은 강력하고 안정적인 설계를 통해 장기간 효율적이고 문제 없는 운영을 보장합니다. 플루오린 기반 에치 (etch) 및 드라이 에치 가스 (dry etch gase) 를 포함하여 다양한 화학적으로 공격적이거나 위험한 화학 물질을 처리하도록 설계되었습니다. 이를 통해 고객은 매우 복잡하고 복잡한 구조를 구축할 수 있습니다 (영문). 전반적으로, 610은 최소한의 비용으로 유전체의 우수한 에칭 및 애싱 (ashing) 을 제공하는 훌륭한 제품입니다. 쉽게 사용할 수 있지만, 고급 (advanced) 기능을 제공하여, 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 요구 사항이 요구되는 반도체 및 전자 기업에게 이상적인 선택입니다.