판매용 중고 CELLO Nasca-20 Plus #293822843

제조사
CELLO
모델
Nasca-20 Plus
ID: 293822843
빈티지: 2011
Inductively Coupled Plasma (ICP) Etcher HANBELL PS80-S Screw dry pump 2011 vintage.
첼로 나스카 -20 플러스 (CELLO Nasca-20 Plus) 는 다양한 반도체 재료의 정확하고 효율적인 처리를 제공하는 고급형 etcher/asher 장비입니다. 이 도구는 높은 처리량, 신뢰성, 프로세스 제어를 위한 반도체 (semiconductor) 업계의 요구를 충족시키기 위해 고안되었으며, 이는 연구/생산 시설에 귀중한 자산입니다. 이 포괄적인 기술 설명에서는 Nasca-20 Plus 의 주요 특징, 기능, 사양을 살펴보겠습니다. 첼로 나스카 -20 플러스 (CELLO Nasca-20 Plus) 는 고급 플라즈마 에칭 및 애싱 기술을 사용하여 뛰어난 정확도와 균일성을 가진 반도체 웨이퍼에서 박막을 제거하고 패턴화합니다. 이 "시스템 '은 여러 가지 공정" 가스' 와 "에너지 '원 을 갖추고 있어서 이산화규소, 질화물" 실리콘', 금속 "필름 '및 유기 물질 과 같은 광범위 한 물질 을 에치 하고 재 로 만들 수 있다. Nasca-20 Plus (Nasca-20 Plus) 의 뛰어난 기능 중 하나는 다양한 프로세스 기능으로, 사용자가 에칭 및 애싱 매개변수를 조정하여 특정 재료 제거율, 선택성 및 사이드월 프로파일을 달성 할 수 있습니다. 이 장치는 최대 200mm 크기의 웨이퍼 (wafer) 를 수용할 수 있으며, 고급 CMOS 장치 제작에서 MEMS 및 광자에 이르기까지 다양한 어플리케이션의 요구 사항을 충족하는 맞춤형 프로세스 레시피를 제공합니다. CELLO Nasca-20 Plus (CELLO Nasca-20 Plus) 에는 깨끗한 처리 환경과 일관된 성능을 보장하는 안정적인 진공 머신이 장착되어 있습니다. 이 도구는 프로세스 진행을 실시간으로 모니터링하고 엔드포인트를 정확하게 결정하여 프로세스 제어 (process control) 와 재현성을 향상시키는 고급 엔드포인트 감지 (advanced endpoint detection) 기술을 제공합니다. 플라즈마 생성 측면에서 Nasca-20 Plus는 고주파 RF 소스를 사용하여 웨이퍼 표면에서 물질을 효과적으로 제거하는 저압 플라즈마 환경을 만듭니다. 에셋에는 온도 조절 기능 (temperature control features) 이 포함되어 있어 처리 중 웨이퍼에 대한 열 효과를 완화하고 기판 전체에 균일 한 에칭 및 애싱 (ashing) 을 보장합니다. 사용자 경험과 생산성을 높이기 위해 CELLO Nasca-20 Plus (CELLO Nasca-20 Plus) 에는 직관적인 사용자 인터페이스가 장착되어 있어 운영자가 프로세스 레시피, 모델 상태 모니터링, 진단 정보에 액세스할 수 있습니다. 이 장비는 또한 원격 모니터링 및 제어 (Control) 기능을 제공하여 자동화된 운영 환경에 원활하게 통합할 수 있습니다. 안전 (Safety) 은 Nasca-20 Plus 설계에서 최우선 과제이며, 인터 록, 가스 흐름 모니터링 및 비상 종료 메커니즘과 같은 기능을 통해 운영자와 장비를 잠재적 인 위험으로부터 보호합니다. 이 시스템은 장비 안전 및 인체 공학 설계 (ergonomic design) 에 대한 업계 표준을 준수하여 안전한 작업 환경을 보장합니다. 전반적으로 CELLO Nasca-20 Plus는 고급 프로세스 기능, 안정적인 성능 및 사용자 친화적 인 작업을 결합한 최첨단 etcher/asher 장치입니다. 연구개발 (R&D) 용도 나 대용량 생산 용도로 사용되든, 이 도구는 광범위한 반도체 응용에 대해 정확하고 균일한 재료 처리를 제공하는 데 뛰어납니다. 강력한 디자인, 다용도, 안전성 등 반도체 제조업체가 자사 제품에 대한 높은 수익률과 더 빠른 출시 시간 (time-to-market) 을 제공하고자 하는 귀중한 자산입니다.
아직 리뷰가 없습니다