판매용 중고 BRANSON / IPC Reactor center 4150-11630 #293831456

BRANSON/IPC Reactor center 4150-11630은 반도체 장치 제작에서 광범위한 재료를 정확하고 안정적으로 처리하도록 설계된 고급 다용도 etcher/asher 장비입니다. 이 도구는 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 전자 장치를 생성하는 제조 공정의 핵심 요소입니다. IPC 반응기 센터 4150-11630 (IPC Reactor center 4150-11630) 의 중심에는 고에너지 플라즈마를 사용하여 기판에서 물질을 선택적으로 제거하는 플라즈마 에칭 기능이 있습니다. 이 과정은 서브 미크론 정밀도로 반도체 장치의 복잡한 패턴과 특징을 정의하는 데 필수적입니다. 이 "시스템 '에는 또한 유기 및 무기 오염 물질 을 제거 하기 위한" 스트립' 및 청소 기판 에 사용 되는 "애셔 '기능 이 갖추어져 있다. BRANSON 원자로 센터 4150-11630 (BRANSON Reactor Center 4150-11630) 의 주요 특징 중 하나는 고급 플라즈마 생성 장치 (plasma generation unit) 로, 균일하고 안정적인 플라즈마를 생산하여 일관된 에칭 및 애싱 결과를 보장 할 수 있습니다. 기계는 무선 주파수 (RF) 와 마이크로파 에너지 (microwave energy) 의 조합을 사용하여 플라즈마를 생성하고 유지하여 에칭 및 애셔 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 원자로 센터 4150-11630 (Reactor Center 4150-11630) 은 높은 수준의 공정 유연성을 제공하여 에칭 (etching) 및 애셔 (asher) 매개변수를 최적화하여 다양한 재료 및 장치 구조에 필요한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 도구에는 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 압력 (pressure), 전원 수준 (power level), 프로세스 시간 (process time) 과 같은 프로세스 매개변수를 직관적으로 제어할 수 있는 사용자에게 친숙한 인터페이스가 장착되어 있습니다. 따라서 교육과 전문 지식을 최소화하여 복잡한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 빠르고 쉽게 설정, 실행할 수 있습니다. BRANSON/IPC Reactor center 4150-11630은 고급 플라즈마 생성 자산 외에도 처리 중 최적의 기판 안정성 및 온도 제어를 보장하는 매우 균일 한 웨이퍼 척 (wafer chuck) 모델을 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 기판 전체 의 "에치 '와" 애셔' 속도 의 변화 를 최소화 하여 일관성 있고 반복 할 수 있는 결과 를 얻게 된다. IPC Reactor Center 4150-11630에는 사용자 및 장비 자체를 보호하는 다양한 안전 기능이 있습니다. 여기에는 안전하지 않은 상태를 방지하는 인터 록 (interlock) 과 경고 (alarm), 주요 프로세스 매개변수를 지속적으로 추적 및 보고하는 내장 모니터링 시스템이 포함됩니다. 전반적으로 BRANSON Reactor Center 4150-11630은 반도체 장치 제조를위한 고급 플라즈마 처리 기능을 제공하는 최첨단 에처/애셔 시스템입니다. 높은 수준의 프로세스 제어, 유연성, 신뢰성을 자랑하는 이 툴은 최첨단 전자 기기와 집적 회로 (integrated circuit) 의 생산에 필수적인 요소입니다.