판매용 중고 BRANSON / IPC L3200 #9201711
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ID: 9201711
웨이퍼 크기: 8"
Descum plasma asher system, 8"
Dual-chamber
Photoresist stripper combines control capability of single wafer processing
With throughput typical of batch systems
Downstream plasma stripping technology
Low-particulate handling / Processing features
Oxygen-only process ensure high yields
Self-diagnostic
Store up to 26 recipes
Dual-cassette system up to 60 six-inch wafers per hour with minimal particle generation..
BRANSON/IPC L3200은 광범위한 어플리케이션을 처리하도록 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 대형 터치 스크린 터치스크린과 직관적인 사용자 인터페이스 IPC L3200은 사용 편의성을 고려하여 특별히 설계되었습니다. 브랜슨 엘 (BRANSON L) 3200 (BRANSON L 3200) 은 고해상도 품질로 에치 결과를 생성하기 위해 고출력 흐름이 필요하지 않도록 핫 필라멘트 어시스트를 제공하는 진공 공정을 제공합니다. 이 기술을 통해 사용자는 정확성과 정확도가 높은 에치를 사용할 수 있습니다. 이 에처는 또한 읽기 쉽고 투명한 진공 디스플레이 (clear vacuum display) 를 통해 운영자가 프로세스 값을 신속하게 식별하고 에칭 시간과 온도를 모니터링할 수 있습니다. 또한 개별 작업을 조정하기 위해 다양한 에치 (etch) 프로세스 설정을 제공합니다. L 3200은 또한 사용이 간편한 고급 웨이퍼 레벨링 기술을 제공합니다. 이 고급 기술은 각 레이어를 에칭 (etch) 하는 동안 웨이퍼의 잘못된 정렬을 자동으로 보상합니다. 이 레벨링 기술은 모든 패스로 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. L3200은 사용자 친화적이고, 안정적이며, 강력한 etcher/asher 장치입니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 운영자는 일관성 있고 고해상도 에칭 결과를 쉽게 얻을 수 있습니다. 고급 자동화 기능과 내장된 안전 제어 (Safety Control) 기능을 통해 사용자는 운영자 오류에 대해 걱정하지 않고 자신있게 etch 결과를 생성할 수 있습니다. 또한 BRANSON/IPC L 3200 은 사용자 친화적인 설계 외에도 포괄적이고 신뢰할 수 있는 서비스/지원 네트워크를 제공하여 고객 만족도 (CS) 를 높이고 사용자가 자신의 시스템에 대한 긍정적 인 경험을 갖도록 설계되었습니다.
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