판매용 중고 BRANSON / IPC 2000iw+ #293826678

BRANSON 2000iw + 는 반도체 제조, MEMS 제작 및 정밀 표면 수정이 필요한 기타 산업을 포함한 다양한 응용 분야에 사용하도록 설계된 다용도 및 고급 etcher/asher 장비입니다. 최첨단 시스템 (최첨단 시스템) 은 다양한 기판을 정확하고 효율적으로 처리할 수 있는 다양한 기능을 제공합니다. 2000iw + 의 주요 특징 중 하나는 고급 이온 소스 (ion source) 기술로, 높은 이온 밀도와 에너지 제어를 통해 최적의 처리 성능을 제공합니다. 이 장치에는 안정적이고 균일 한 플라즈마 방전을 제공하는 고출력 RF 발전기 (HF Generator) 가 장착되어 있어 넓은 기판 영역에서 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 이 고급 이온 소스 기술은 정확한 에칭 및 애싱 프로세스를 가능하게하여 BRANSON 2000iw + 는 높은 프로세스 반복 성과 제어가 필요한 응용 프로그램에 이상적입니다. 또한 2000iw + 는 사용자 친화적 인 인터페이스를 제공하여 머신 매개변수를 쉽게 작동 및 모니터링할 수 있습니다. 이 도구에는 프로세스 상태, 플라즈마 조건, 자산 진단 (asset diagnostics) 에 대한 실시간 피드백을 제공하는 터치 스크린 디스플레이가 장착되어 있습니다. 연산자는 가스 유량 (gas flow rate), RF 전원 수준 (RF power level), 프로세스 기간 (process durations) 과 같은 프로세스 매개변수를 쉽게 조정하여 성능을 최적화하고 원하는 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 고급 이온 소스 기술 및 사용자 친화적 인 인터페이스 외에도, BRANSON 2000iw + 는 사용자의 다양한 요구 사항을 충족하는 다양한 처리 기능을 제공합니다. 이 모델은 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 공정을 위해 다양한 가스와 가스 혼합물을 지원하여 프로세스 화학의 특정 결과를 달성 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 각기 다른 기판 재료 및 공정 요구사항을 수용할 수 있도록 조정 가능한 공정 압력 및 온도 설정을 제공합니다. 또한, 2000iw + 는 대용량 기판 크기와 여러 기판을 동시에 수용할 수있는 넓은 챔버 (spacious chamber) 를 갖춘 높은 처리량을 위해 설계되었습니다. 이 시스템은 효율적인 가스 처리 (gas handling) 및 흐름 제어 시스템 (flow control systems) 을 갖추고 있으며 전체 기판 표면에서 균일 한 프로세스 범위와 일관된 결과를 보장합니다. 이 높은 처리량 기능으로 인해 BRANSON 2000iw + 는 대규모 기판의 빠르고 안정적인 처리가 필요한 프로덕션 환경에 적합합니다. 2000 iw + 의 또 다른 중요한 기능은 운영자 보호 및 장치 무결성을 보장하는 고급 안전 기능입니다. 이 기계에는 과압 (overpressure) 이나 과도한 온도 수준 (peremive temperature level) 과 같은 안전하지 않은 작동 조건을 감지하고 방지하는 인터 록 (interlock) 과 안전 센서가 장착되어 있습니다. 이 도구에는 오작동 또는 비상 사태의 경우 자동 종료 메커니즘 (Automatic Shutdown Mechanism) 이 포함되어 있으며, 에셋의 손상 위험을 최소화하거나 운영자에게 해를 끼칠 수 있습니다. 전반적으로 BRANSON 2000iw + 는 고급 처리 기능, 높은 처리량, 사용자 친화적 운영을 제공하는 최첨단 etcher/asher 모델입니다. 고급 이온 소스 기술, 사용자 정의 가능한 프로세스 매개변수, 강력한 안전 기능으로, 2000iw + 는 정확하고 효율적인 표면 수정 프로세스가 필요한 어플리케이션에 적합합니다.