판매용 중고 AXCELIS / FUSION Gemini #293767155

AXCELIS/FUSION Gemini는 FUSION 회사의 전용 에칭/애싱 도구입니다. 이 제품은 사용자에게 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에 대한 높은 생산성과 정확성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템에는 균일 한 빔 스팟 오버랩, 최소 비 에칭 오염 및 반복 가능한 프로세스 제어가 있습니다. FUSION 제미니 (FUSION Gemini) 의 공정 챔버는 다양한 기판 크기와 재료를 수용하도록 설계되었으며, 넓은 공정 영역을 제공합니다. AXCELIS Gemini 는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 과정에서 두 가지 별개의 기술을 활용하여 높은 선택성, 향상된 프로파일 제어 및 높은 화학적 수율을 실현합니다. 첫 번째 기술은 이온 소스, 매우 균일 한 입자를 가진 이온 빔입니다. 이것은 에칭 프로세스 효율성을 높이고 다른 에처 시스템보다 훨씬 더 정확한 에치 프로파일을 산출합니다. 두 번째 기술은 펄스 전자 빔 (pulsed electron beam) 으로, 높은 에너지 전자를 사용하여 표적 주위에 강력한 전기장을 만드는 기술입니다. 이 필드는 이온을 가속화하고 속도를 높여 보다 정확하고 상세한 에칭 (etching) 을 허용합니다. 최적의 성능과 안정성을 위해 Gemini에는 여러 가지 정교한 안전 기능이 내장되어 있습니다. 스퍼터 기술은 제어 가능한 에치 속도, 빔 균일성, 높은 선택성 및 반복 가능한 프로세스 결과, 심지어 최소한의 에치 선택성을 가진 재료에 대해서도 제공합니다. 내장 온도 제어 시스템은 열 표류를 방지하여 특정 에치 기능이 손상되지 않도록 방지합니다. AXCELIS/FUSION Gemini 용 소프트웨어 컨트롤러는 운영자에게 가스, 압력 수준, RF 전원, 플래튼 열 수준 및 기타 중요한 프로세스 매개 변수에 대한 실시간 액세스를 제공합니다. 마지막으로, FUSION Gemini 는 기존 운영 또는 실험실 워크플로우에 통합할 수 있는 여러 하드웨어/소프트웨어 솔루션과 호환됩니다. 이렇게 하면 연산자가 즉석에서 매개변수를 수정할 수 있는 기능이 추가된 에칭 (etching) 프로세스를 정확하고 정확하게 제어할 수 있습니다. AXCELIS Gemini 는 강력하고 신뢰할 수 있는 툴로서, 반도체, MEMS 및 RF/마이크로파 분야에서 프로세스를 달성하는 데 이상적인 툴입니다.