판매용 중고 AXCELIS / FUSION Gemini GPL #293757340

AXCELIS/FUSION Gemini GPL (Generic Process Library) etcher/asher는 반도체 제작을 위한 고급, 높은 처리량, 대용량 에칭 및 애싱 기능입니다. 이 단일 웨이퍼 처리 플랫폼은 깊은 에칭, 애싱 및 기타 이방성 프로세스를 위해 설계되었습니다. 고해상도, 다중 가스 처리 기술로 제미니 (Gemini) 는 다양한 에치 가스 화학 물질로 반도체 기질에서 복잡한 패턴을 정확하게 에칭 (etching) 하고 ashing 할 수 있습니다. 고급 기술은 유연하고 반복 가능한 높은 처리량 에치 처리를 제공합니다. 이 장비는 모듈식 (modular) 설계를 활용하여 유연한 프로세스 모듈을 제공하며, 하단 및 상단 웨이퍼 (top side wafer) 에칭을 독립적으로 제어합니다. 다중 가스 프로세스 기술은 자체 보정 및 레시피 정의 작동 모드를 모두 지원합니다. 이 시스템은 다양한 선택 가능한 가스 (gase) 와 압력 프로파일 (pressure profile) 을 제공하며 사용자 정의 가능한 레시피 매개변수를 제공합니다. 제미니 (Gemini) 는 특허를받은 고해상도 챔버 설계 및 공정 기술로 분속 20 유로의 에치 속도를 달성 할 수 있습니다. 이 속도는 FUSION ETP (Enhanced Throughput Processing) 기술을 활용하여 더 높은 처리량을 수용하도록 늘릴 수 있습니다. 또한 MTP (Multi-Target Profiling) 기능을 사용하여 10 ½ m 이하의 범위에서 엄격한 공차를 가진 기능 폭을 생성합니다. Gemini의 고급 이중 가스 프로세스 제어는 최고의 프로세스 유연성을 제공합니다. 다른 가스와 압력 프로파일 (pressure profile) 을 전환할 때 업계에서 가장 빠른 복구 시간 중 하나를 제공합니다. 이를 통해 처리량을 높이고 프로세스 반복성을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 제미니 (Gemini) 의 고급 모니터링 및 진단 기능을 통해 운영자는 프로세스 결과를 최적화할 수 있습니다. GUI (Graphical User Interface) 를 사용하면 장치를 쉽게 액세스하고 제어할 수 있습니다. 또한 Tool-to-tool 상관 관계 및 wafer-to-wafer 처리량 성능을 통해 탁월한 분석 기능을 제공합니다. Gemini는 안정적인 성능, 반복 가능한 결과 및 높은 처리량을 제공합니다. 첨단 기술과 독보적인 기능을 통해 반도체 제조업체에게는 효율적이고 비용 효율적인 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 솔루션이 제공됩니다.