판매용 중고 AST / ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L #9059489
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ID: 9059489
빈티지: 2011
ICP-RIE system, 2"-8"
Specifications:
Chamber Materials: Anodized Al 6061T6
RF Power: 300 ~ 1000 W (Option)
Substrate Temperature Control: RT ~ 400℃
Wafer Numbers / Size: (30 -1) pcs / (2"- 8")
Gas Lines with MFCs: 6 Standard Lines
Reactor Base Pressure: < 1E-3 Torr
Process Pressure Range: From 50 mTorr to 10 Torr
Pumping System: Roots pump + Rotary pump or Dry pump(Option)
Load/Unload (Option): Vacuum Robot Transport
Load-Locks Pumping System (Option): Rotary Vane Pump
Load-Locks base Pressure (Option): < 1E-2 Torr
Non-Uniformity: 5% for WIW, WTW and RTR
Automatic Control System: Industrial PC with Graphic Control Interface
Power Requirement: AC220V, 3 phase, 60 Hz, 80A,
Gas Inlet Requirement: 1.2 kgw/cm2
CDA Requirement: 5 kgw/cm2
Water Requirement: 1.5 kgw/cm2, 20℃, 20 l/min
2011 vintage.
AST/ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L etcher/asher는 금속 부품에서 고급 에칭 및 애싱 기술을 수행하는 정밀 기계입니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 저압, 균일 한 내부 플라즈마 제트를 특징으로하며, 이는 다양한 재료에서 구성 요소를 에치하고 애셔하는 데 사용될 수 있습니다. AST CIRIE-100L은 벤치 탑 머신으로, 에칭 및 애싱 (ashing) 동안 정확한 위치를 제공하는 정확한 테이블 및 장착 시스템입니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 최대 0.0005 인치, 최대 0.001 인치 깊이의 에치 깊이와 정확한 선 너비 제어 및 조절 가능한 위상 이동을 달성 할 수 있습니다. ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L etcher/asher에는 탁월한 에치 및 애셔 성능을 위한 고급 기능도 장착되어 있습니다. 이러한 기능에는 정전기 자체 방전, 고선명 파형 제어, VCV 필터링, HDRC (High Dynamic Range Control) 및 ACA (Axial Control Acceleration) 가 포함되며, 최고의 정확성과 반복 성을 보장하고 효율적인 재료 제거를 위해 표면 프로파일이 개선되었습니다. CIRIE-100L etcher/asher에는 우발적 배출 방지를 위해 건조 질소 공급 센서, 가스 모니터링 및 누출 탐지기와 같은 고급 안전 기능이 장착되어 있습니다. 에칭 (etching) 프로세스와 애싱 (ashing) 프로세스는 모두 사용이 간편한 오픈 플랫폼 소프트웨어 제품군으로, 운영자가 에치 및 애싱 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. AST/ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L etcher/asher는 고급 안전 측정, 높은 정확도, 품질 에칭 및 애싱 성능, 고급 에칭 및 애싱 어플리케이션을위한 신뢰할 수있는 솔루션으로 설계되었습니다.
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