판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP Poly #9215552

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Poly etcher/asher는 향상된 장치 수율 및 계산 용량을 위해 설계된 고속 polysilicon etcher/asher입니다. 반도체 칩의 폴리실리콘 에칭 (polysilicon etching) 에 대한 균일성을 높이고 처리량을 향상시키기 위해 특별히 설계되었습니다. AMAT P5000 MxP 폴리 에처 (Poly etcher )/애셔 (asher) 는 제조업체가 장치 수율 비용을 절감하고 반도체 칩의 변화하는 풍경을 유지할 수있는 강력한 도구입니다. APPLIED MATERIALS P5000 MXP + POLY etcher/asher는 화학, 열 및 반응성 종을 사용하여 폴리 실리콘을 빠르게 제어합니다. 이 제품은 가스 배송을 정확하게 제어하고 폴리실리콘 에칭 (polysilicon etching) 에 이상적인 환경을 제공하는 내장형 화학적 배달 장비를 갖추고 있습니다. P5000 MxP Poly etcher/asher는 이중면 필름의 에칭을 용이하게하기 위해 이중 챔버 처리를 가지고 있습니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 단일 챔버 모드에서 사용되고, 고해상도 및 균일 한 에칭을 위해 필름의 한쪽을 다른 면으로부터 분리하는 데 사용될 수있다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MXP + POLY etcher/asher는 또한 모든 프로세스 실행에서 최적의 에칭 결과를 얻기 위해 압력, 온도 및 기타 매개 변수를 동적으로 조정하는 혁신적인 적응 튜닝 시스템을 갖추고 있습니다. 이 고급 튜닝 기술은 챔버 온도, 주변 압력 (ambient pressure), 가스 구성 (gas composition) 등 다양한 환경 조건을 고려하여 플라즈마 매개변수를 최적의 에칭 성능에 최적화합니다. AMAT P5000 MXP + POLY etcher/asher의 모듈식 아키텍처는 프로세스 일관성 및 수율 향상을 제공합니다. 교체 가능한 모듈에는 일관되고 최적화된 프로세스 환경을 유지하기 위해 RF 전원, 공정 가스 공급 장치, 냉각수 유체가 포함됩니다. RF 전류 매핑 장치 (옵션) 를 사용하면 정확도가 더욱 향상됩니다. P5000 MXP + POLY etcher/asher는 고정밀 프로세스 최적화 및 고출력 기능으로 생산성 및 품질이 향상되도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS P5000 MxP Poly etcher/asher에는 재료 특성 및 프로세스 모니터링을 위해 정교한 모니터 및 제어 머신도 장착되어 있습니다. 이 고유한 기능은 피드백 (feedback) 과 제어 (control) 를 제공하도록 설계되어 etch 매개변수를 실시간으로 최적화하여 etch 프로세스를 특성화하고 검증할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Poly etcher/asher는 독립 프로세스 제어 및 프로그래밍을위한 고급 자동화 도구도 갖추고 있습니다. AMAT P5000 MxP Poly etcher/asher는 반도체 산업에서 고급 폴리 실리콘 에칭을위한 완벽한 도구입니다. 경제적인 패키지로 향상된 디바이스 수율, 높은 처리량, 정확한 프로세스 최적화 기능을 제공합니다. 고급 및 자동 기능으로 모든 에칭 (etching) 요구 사항을 완벽하게 선택할 수 있습니다.