판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9271269

AMAT/APPLIED MATERIALS G5는 반도체 제조 공정에 사용되는 에처/애셔 유형입니다. 이 제품은 TCO (총소유비용) 를 절감하고 디바이스 제작을 보다 효과적으로 제어할 수 있도록 설계된 '건식 (dry-etch)' 기술입니다. AMAT G5는 수평 에치 방향을 사용하여 전체 웨이퍼에 균일 한 가스 흐름을 만듭니다. 이 장비는 진공 및 고압 플라즈마를 사용하여 노출 된 웨이퍼 표면을 에치합니다. 진공은 에칭 과정에서 웨이퍼 (wafer) 에 증착 된 입자 및 기타 오염 물질을 제거하는 작용한다. 고압 플라즈마 (high-pressure plasma) 는 높은 정밀도와 정확도로 웨이퍼 표면을 에치하는 데 사용됩니다. 응용 재료 G5 (APPLIED MATERIALS G5) 도 확장 가능하고 구성 가능하여 다양한 복잡한 패턴을 쉽게 만들 수 있습니다. 모듈식 설계를 통해 새로운 레시피 개발, 프로토 타입 테스트, 생산성 향상, 안정적인 처리 (processing result) 등의 작업을 간편하게 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 최대 8 인치 웨이퍼 크기로 제품을 처리할 수 있는 여러 공정 챔버 (process chamber) 를 지원할 수 있습니다. G5는 또한 두 가지 에치 모드 중 하나를 제공합니다. 최대 9 개의 웨이퍼로 구성된 단일 웨이퍼 및 배치 웨이퍼 모드. AMAT/APPLIED MATERIALS G5에는 고급 제어 및 안전 기능도 장착되어 있습니다. 프로세스 챔버 (Process Chamber) 에는 자동화된 프로세스 설정 및 모니터링을 위해 터치 스크린 컨트롤이 포함 된 통합 웹 기반 인터페이스가 있습니다. 플랜지 누출, 공정 챔버 과압 차단, 통합 화재 억제, 장애 안전 냉각 시스템 등의 보호 기능이 내장되어 있습니다. 이 장치에는 안정적이고 반복 가능한 프로세스 결과를 위해 통합 가스, 전력, 냉각 공급 시스템이 있습니다. AMAT G5 (AMAT G5) 는 다양한 응용 분야에 적합한 고가용성, 다용도 에처/애셔입니다. 이 기계는 빠른 공정 제어 (process control) 와 균일 한 결과를 제공하며, 반도체 산업의 연구 및 개발에 이상적인 도구입니다. 이 툴은 경제적이고 에너지 효율적인 (energy efficient) 솔루션을 제공하면서 안정적이고 반복 가능한 프로세스 결과를 제공할 수 있습니다.