판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9263764

AMAT/APPLIED MATERIALS G5는 반도체 제조 및 포장에 사용되는 정밀 에칭/애싱 도구입니다. 효율적인 photolithographic 패턴, 에칭 및 재 청소를 위해 설계되었습니다. AMAT G5는 사용하기 쉬운 사용자 인터페이스와 높은 처리량을 갖춘 올인원 (All-in-One) 설계를 갖추고 있습니다. 또한 낮은 전력 소비량, 낮은 유지 보수 설계, 다양한 맞춤형 (customizable) 처리 옵션을 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS G5는 반 표준 및 와이드 하단 프로세스 챔버를 제공하여 다양한 에칭/애싱 프로세스 요구 사항에 적합합니다. 무선 주파수 (RF) 와 플라즈마 소스를 기반으로하며 에칭 (etching) 과 재 클리닝 (ash cleaning) 을 모두 통해 얇은 유전체 층에서 잘 정의 된 패턴을 생성 할 수 있습니다. 27 ~ 250kHz의 제어 가능한 가변 주파수 범위를 통해 미크론 레벨 정밀 기능을 안정적이고 정확하게 에칭할 수 있습니다. 또한 G5는 뛰어난 웨이퍼 처리량과 프로세스 균일성을 제공합니다. 임베디드 웨이퍼 카세트 (Wafer-Cassette) 와 Wafer 전송이 항상 성공하도록 설계된 통합 자동 로드 포트가 특징입니다. 자동 웨이퍼 처리 시스템은 10 초 이내에 다른 카세트 사이에서 웨이퍼를 이동할 수있는 유연성을 제공합니다. 조정 가능한 웨이퍼 지원 서스펜션을 통해 다양한 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS G5에는 저온 (Low Temperature) 을 신속하게 감지하고 비 균일성을 처리하는 여러 내부 모니터링 기능이 장착되어 있습니다. 최첨단 가스 분포 시스템은 정확하고 균일 한 유속 조절뿐만 아니라 가스-기질 조건의 우수한 품질을 제공합니다. 마지막으로, 내장 안전 및 오염 방지 기능은 "Hot Wall" 플라즈마 격리 시스템과 "Active Surface Source Cleaning" 기능을 통해 향상되었습니다. 무엇보다도, AMAT G5는 얇은 재료층에서 정확하고 고성능 패턴을 안정적으로 생산할 수 있는 강력한 에칭/애싱 (etching/ashing) 도구입니다. 고효율의 처리 능력과 견고한 엔지니어링 설계를 통해 소형화 (micro-size) 기능과 짧은 주기 (short cycle) 의 안정적인 에칭/애싱에 적합합니다. APPLIED MATERIALS G5는 또한 뛰어난 웨이퍼 처리량, 안정적인 프로세스 균일성, 쉽게 조절 가능한 압력, 온도 및 가스 유속 설정을 제공합니다.