판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS eMax CT+ #9375192

AMAT/APPLIED MATERIALS eMax CT + 는 통합 회로 제작을 위한 탁월한 성능을 제공하도록 설계된 고급 에칭/아스퍼징 플랫폼입니다. 이온 빔, 유도 결합 플라즈마 및 자기 구동 공정의 조합을 통해 고밀도, 초미세 패턴 기능을 갖춘 3D/2D 에칭에 최적화되었습니다. AMAT EMAX _ CT + 는 고압 자기 유체 역학 (MHDF) 과 저압 ICP (Inductively Coupled Plasma) 기술의 조합을 통해 업계 최고의 식각 기능을 제공합니다. 복잡한 3D 형상을 만들 수 있으므로 반도체, 광전자 및 MEMS 구성 요소를 포함한 고급 장치의 마이크로 제작에 이상적입니다. APPLIED MATERIALS E-MAX CT + 는 사용자 정의가 용이하며, 가장 까다로운 어플리케이션을 위해 다양한 플라즈마 및 이온 빔 기술을 사용하여 구성할 수 있습니다. 최신 소형화 장치 (Miniaturized Device) 기술에 중요한, 탁월한 공간 해상도를 제공하면서 빠르고 안정적인 기판 에칭 프로세스를 쉽게 사용할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS EMAX _ CT + 의 공정 챔버 (process chamber) 에는 에칭 과정에서 기질의 압력과 온도 균일성을 최대화하여 최고의 기질 균일성 및 플라즈마 안정성을 보장하는 몇 가지 기능이 있습니다. 약실은 또한 유지 보수가 적고, 100% 누출이 없으며, 최소 양의 운영자가 필요합니다. 에칭 프로세스는 폐쇄 된 환경 및 펠티어 펌프 (Peltier pump), 이중 밀도 웨이퍼 처리 (dual-density wafer handling) 및 고급 온도 모니터링 도구와 같은 특정 기능에서 이루어지며 미립자 물질 오염을 줄입니다. 이러한 기능을 통해 AMAT eMax CT + 는 비용 효율적인 통합 회로 제조를 위한 탁월한 플랫폼이 됩니다. E-MAX CT + 는 재생 가능 및 비활성 가스를 사용하여 환경에 미치는 영향을 줄이고 유해 물질 처리를 제한합니다. "가스 '배달" 시스템' 은 공정 "가스 '를 정확 하고 효율적 으로 배달 하며, 오늘날 의 현대적 인 제조 요건 에 있어서 유연하고 믿을 만한 식각" 플랫폼' 을 제공 한다. AMAT/APPLIED MATERIALS EMAX _ CT + 는 신뢰할 수 있고 사용하기 쉬운 에칭/어스퍼징 플랫폼으로, 회로 구성 요구에 대한 정확성과 일관성을 제공하도록 설계되었습니다. 뛰어난 균일성과 고밀도 패턴화 기능으로 고정밀도, 3D/2D 제작을 위한 탁월한 선택입니다.