판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS eMax CT+ #9189026

AMAT/APPLIED MATERIALS eMax CT + 는 반도체 제작 공정에서 정확한 결과를 제공하기 위해 설계된 정밀 드라이 에치 및 애셔 솔루션입니다. 이 강력한 통합 드라이 에칭 (dry etching) 및 애셔 (asher) 시스템은 고급 플라즈마 공정 및 웨이퍼 전송 자동화를 특징으로하며, 둘 다 생산성을 높이고 균일성을 향상시킵니다. 이 시스템은 단일 챔버에서 저압, 고출력, 자기장 참조를 결합하는 혁신적인 플라즈마 공정을 사용합니다. 이것은 더 높은 에치 선택성, 뛰어난 균일성 및 더 높은 처리량을 독특한 조합으로 제공합니다. 자동 웨이퍼 전송 (automated wafer transfer) 은 각 웨이퍼를 에치 챔버 (etch chamber) 에 정확하게 배치하고, 여러 단계를 추가하여 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 완료하여 전체 에치 시간과 에치 반복 가능성을 정확하게 제어합니다. 또한, 통합 클로즈드 루프 (closed-loop) 모듈은 자동화 및 유연성 수준을 제공하여 AMAT EMAX _ CT + 를 반도체 업계의 다양한 하드 재료를 신속하게 제조 및 처리하기위한 완벽한 솔루션으로 만듭니다. 닫힌 루프 (closed-loop) 모듈을 활용하여 압력, 바이어스, 전원 등과 같은 etch 매개변수를 원하는 성능 기준에 맞게 자동으로 조정할 수 있습니다. 이는 챔버 온도 (chamber temperature) 나 처리 중인 웨이퍼 수에 관계없이 일관된 결과를 제공합니다. 또한, 챔버 (chamber) 는 다양한 웨이퍼 크기를 처리 할 때에도 균일성을 유지하여 높은 수준의 수율과 반복 성을 보장하도록 설계되었습니다. 통합된 시각화 및 최적화 툴을 통해 APPLIED MATERIALS E-MAX CT + 는 시장에서 가장 정확한 드라이 에치 및 애셔 솔루션이 됩니다. 제어 장치 내의 플랫폼 종속 진단 (platform-dependent diagnostics) 을 통해 etch 선택성 및 웨이퍼 온도를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 즉, Plasma Process Parameter의 모든 문제를 빠르고 정확하게 식별하고 수정할 수 있습니다. 또한 몬테 카를로 (Monte Carlo) 분석 및 2 차원 시뮬레이션과 같은 통합 분석 도구는 연산자에게 자세한 시스템 분석을 제공하여 성능에 대한 가장 최적의 조건을 신속하게, 그리고 최소한의 연산자 개입으로 식별 할 수 있습니다. 고급 플라즈마 처리 기술, 자동 웨이퍼 전송, 통합 진단 및 최적화 도구의 조합으로, AMAT E-MAX CT + 는 반도체 업계의 정확한 에칭 및 애싱 프로세스를 위한 최고의 선택입니다.