판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9301026

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 Asher and Etcher는 전자 업계에서 중요한 부품을 형성하는 데 사용되는 고급 반도체 처리 장비입니다. 이 장비는 플라즈마 에칭 (plasma etching) 과 애싱 (ashing) 을 사용하여 유리, 실리콘 및 금속을 포함한 다양한 기판에 초미세 패턴과 구조를 만듭니다. G3 모델은 최대 600mm의 공정 챔버 (process chamber) 를 가지며 최대 8 개의 플래텐을 수용 할 수 있습니다. 이 시스템은 IT (Integrated Tool) 플랫폼으로 설계되었으며, IT (Integrated Tool) 플랫폼은 장치의 다양한 구성 요소를 하나의 장치로 통합하고, 운영자가 단일 인터페이스를 사용하여 전체 시스템을 제어할 수 있도록 합니다. AMAT DPS II AE G3 Asher 및 Etcher는 여러 특허 기술을 사용하여 효과적이고 균일 한 플라즈마 처리를 달성합니다. 장비의 PIIT (Plasma Immersion Ion Technology) 는 저렴한 비용과 빠른 에칭 속도를 허용하는 반면 ISSO (Internal Source of Self-Organization) 는 더 큰 시야와 정확한 패턴을 달성하는 데 도움이됩니다. G3 모델에는 첨단 디지털 제어 툴 (digital control tool) 이 포함된 혁신적인 전원 공급 모듈 (power supply module) 이 포함되어 있어 전체 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 Asher and Etcher는 신뢰할 수 있고 효율적인 자산으로 다양한 조건을 견딜 수 있도록 설계되었습니다. 혁신적인 셔터리스 에처 (Shutterless Etcher) 는 에치 가스를 빠르게 냉각시켜 사이클시 사이드 손상을 제거하고 도구 안정성을 높입니다. 이 모델에는 언제든지 프로세스를 추적, 모니터링할 수 있는 "온라인 에너지 모니터링 (energy monitoring) '장비가 장착되어 있습니다. 이 고급 시스템 (advanced system) 은 다양한 화학 물질과 기체 (gase) 를 사용하여 다양한 훌륭한 패턴과 구조를 만들 수있는 유연성을 제공합니다. DPS II AE G3은 O2, CF4, CHF3 및 H2와 같은 반응 가스와 N2, Ar, He 및 Xe와 같은 에칭 가스를 지원합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3에는 온도, 압력, 전압 등 다양한 프로세스 매개 변수가 있으며, 모든 응용 프로그램의 요구를 충족하도록 맞춤 조정할 수 있습니다. AMAT DPS II AE G3 Asher and Etcher는 오늘날 전자 산업의 요구를 충족하도록 설계된 강력하고, 신뢰할 수 있으며, 다용도 장치입니다. 고급 제어기 (Advanced Control Machine) 를 사용하여 G3 모델을 사용하면 정밀한 프로세스 제어를 통해 각 기판에 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 광범위한 프로세스 매개변수와 결합된 혁신적인 셔터리스 에처 (Shutterless Etcher) 기능은 기판 재료에 손상을 입히지 않고 빠르고 균일 한 에칭 및 애싱 (ashing) 을 허용합니다. APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 (APPLIED MATERIALS II AE G3) 은 가장 거친 환경에서도 복잡한 패턴과 구조를 만들려고하는 사람들에게 완벽한 도구입니다.