판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS 0010-36900 #9075353

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS 0010-36900 Asher는 다양한 어플리케이션 요구에 맞게 설계된 PVD (Production Scale Physical Vapor Deposition) 시스템입니다. 반도체 포장 및 태양 광 세포 처리에 이상적인 두꺼운 등각 필름 (conformal film) 을 생성 할 수 있습니다. 이 asher는 30cm x 30cm 공정 챔버를 갖춘 다양한 공정 기능을 가지고 있습니다. 애셔 (asher) 는 태양 광 전지 처리를 위해 양질의 전극을 생산하기 위해 웨이퍼 온도, 압력, 증착률 및 전력을 동시에 제어하도록 설계되었습니다. AMAT DPS 0010-36900 Asher는 높은 처리량 균일성과 스트레스 제어를 위해 설계되었습니다. 열 증발과 결합 된 RF (무선 주파수) 전력을 사용하여 기질의 균일 하고 등각 코팅을 달성합니다. 이 애셔 (Asher) 는 저주파 (Low Frequency) 및 펄스 플라즈마 (Pulsed Plasma) 를 포함한 고급 제어 기술을 사용하여 최고의 성능으로 최고 품질의 제품에 대한 플라즈마 프로세스를 최적화합니다. 또한 스팟 크기 균일성 (spot size unifority) 및 향상된 임계 치수 제어에 대한 충돌 밸런싱의 장점이 추가되었습니다. APPLIED MATERIALS DPS 0010-36900 Asher는 신뢰할 수 있고 신뢰할 수 있는 네거티브 이온 소스를 사용하여 긴 수명과 안정적인 성능을 제공합니다. 저압 진공 시스템 (Low-pressure vacuum system) 은 프로세스 간 사이클링에 적합하며 뛰어난 반복성으로 높은 처리량을 제공합니다. 이 애셔 (asher) 는 탁월한 프로세스 제어 및 모니터링 옵션을 제공하여, 각 개별 프로세스 단계를 조정하여 성능 및 디바이스 수율을 향상시킵니다. 이 애셔 (asher) 는 잠재적인 위험을 피하기 위해 연결 안전성을 검사하는 연동 (interlock) 기능과 장비의 전기 정전기 방전을 최소화하는 ESD 보호 장치 (ESD Protection Device) 를 포함하여 강력하고 안정적인 안전 기능으로 설계되었습니다. 또한 입자 축적, 부식, 먼지로부터 내부 성분을 보호하기위한 다양한 보호 층이 장착되어 있습니다. DPS 0010-36900 Asher 는 각 고객의 특정 애플리케이션 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다. 다양한 프로세스 변수 (process variable) 를 제어하여 광범위한 애플리케이션에 적합한 시스템 성능을 최적화할 수 있습니다 (영문). 수동 (manual) 기능과 자동 (automated) 기능을 모두 사용하여 사용자가 특정 프로세스에 가장 적합한 시스템을 선택할 수 있습니다.