판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS #293625377

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS는 오늘날의 반도체 및 처리 산업의 요구 사항을 충족하도록 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 고성능 시스템은 탁월한 처리량을 제공하며, 탁월한 결과를 제공하기 위해 정교한 프로세스 챔버 (process chamber) 로 구성됩니다. AMAT Centura AP DPS MINOS는 고급 플라즈마 기술을 통합하여 높은 수준의 정확성과 제어를 통해 웨이퍼를 처리합니다. 이는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스의 최고 품질을 보장하는 동시에, 최대 수준의 프로세스 반복성과 신뢰성을 제공합니다. 이 장치는 원형 (round) 및 사각형 (rectangular) 모양을 포함한 다양한 크기의 기판을 처리하도록 설계되었으며, 종횡비가 높은 기판을 가져올 수 있습니다. 미노스 (MINOS) 에는 고급 공정 챔버 (Advanced Process Chamber) 가 장착되어 있으며, 공정 가스 인젝터 (Process Gas Injector) 를 사용하여 정밀한 간격으로 공정 챔버에 가스를 주입하여 에칭 및 애싱 프로세스를 더욱 효과적으로 제어 할 수 있습니다. 이 고급 가스 인젝터 머신 (advanced gas injector machine) 을 사용하면 프로세스 압력, 온도, 흐름 속도를 제어할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 보다 많은 수준의 제어 및 유연성을 얻을 수 있습니다. Centura AP DPS 는 여러 프로세스 모니터링 센서를 사용하며, 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수 (예: 압력, 온도, 흐름 속도) 를 모니터링하고 프로세스를 최적화할 수 있습니다. 이 도구는 또한 플라즈마 에칭 공정의 균질화를 향상시키기 위해 2 차 플라즈마 소스를 통합합니다. APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS의 사용자 인터페이스는 직관적으로 설계되었으며, 사용자는 프로세스 경보를 모니터링하고, 프로세스 데이터를 검토하고, 에치/애싱 주기를 수행하고, 레시피를 관리할 수 있습니다. 사용자 인터페이스는 또한 가스 전달 (gas delivery) 및 매핑 (mapping) 과 같은 고급 기능을 제공하여 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 더욱 효과적으로 제어할 수 있습니다. Centura AP DPS MINOS는 향상된 수율, 비용 절감, 보다 효율적인 에칭 및 애싱 프로세스를 제공합니다. 이 자산은 또한 높은 수준의 프로세스 반복성 (repeatability) 을 제공하여 사용자는 모든 에치/애쉬 사이클 (etch/ash cycle) 을 통해 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS MINOS는 뛰어난 처리량, 제어 및 정확도를 제공하는 고급 에처/애셔 모델입니다.