판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly #293802316

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly Etcher/Asher는 반도체, 태양 광 세포 및 기타 고급 재료의 제조에 사용되는 화학 가공 기계입니다. 하나의 장비에 리소그래피, 에칭 (etching), 클리닝 (cleaning) 을 결합한 안정적이고 비용 효율적이며 완벽한 시스템입니다. 이 기계는 폴리실리콘, 실리콘 산화물, 산화 알루미늄, 질화물, 구리 및 기타 금속을 석영, 실리콘, 유리 및 기타 기질에 에칭 할 수 있습니다. AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly Etcher/Asher에는 다른 에칭 및 애싱 머신보다 유리한 몇 가지 독특한 기능이 있습니다. 메사 챔버 (mesa chamber) 는 화학 처리량에 대한 지속적인 반응을 허용하여 더 높은 수율과 더 나은 공정 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 플라즈마 (Plasma) 옵션은 탁월한 프로세스 제어 및 다용성을 제공하여 에치 선택성 (etch selectivity) 과 균일성 (unifority) 을 최적화할 수 있습니다. 이 에처/애셔는 에칭 프로세스 전체에서 높은 정밀도를 제공합니다. 주요 에치 (etch) 애플리케이션의 일반적인 빔 포커스 오류를 수정하는 정밀 광학 시스템이 내장되어 있습니다. 고급 프로세스 제어 (Advanced process control) 는 정확한 기판 정렬 및 레이어 컴포지션 제어를 가능하게 하며, 이를 통해 정확한 에칭 결과를 얻을 수 있습니다. 에처/애셔 (Etcher/asher) 는 사용이 간편한 인터페이스를 통해 사용자가 프로세스를 한눈에 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 사용자 친화적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 운영자는 최소한의 노력으로 프로세스를 손쉽게 설정, 실행, 모니터링할 수 있습니다. 이 기계는 또한 장비와 인력을 위험한 연료와 재료로부터 보호하는 많은 안전 (safety) 기능을 가지고 있습니다. 이 기계는 뛰어난 안정성과 가동 시간을 제공하는 고급 구성 요소로 제작되었습니다. 또한 에칭 챔버에서 깨끗함을 유지하고, 다운타임을 최소화하고, 수율을 개선하도록 설계되었습니다. 또한, 에처/애셔 (etcher/asher) 는 에칭 프로세스에 대한 실시간 데이터를 제공하는 수많은 환경 모니터링 시스템을 갖추고 있습니다. 이를 통해 각 에치가 최고 표준으로 수행됩니다.