판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly #293802182

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly는 에처/애셔 또는 최적의 재료 에칭 및 애싱 성능을 달성하도록 설계된 정밀 플라즈마 에치/애쉬 머신입니다. 나노 미터 (nanometer) 수준의 정확도에서 뛰어난 정밀도를 만들 수 있으며, 프로파일 모양과 피쳐 크기를 정확하게 제어합니다. 이를 통해 0.2 äm 정도의 작은 기능을 정확하게 에칭 할 수 있으며, 정확한 재 (ashing) 결과도 생성 할 수 있습니다. AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly는 건식 에치/애쉬 머신으로, 고 에너지 이온 및 입자를 사용하여 기질에서 얇은 물질 층을 제거합니다. 이 과정 은 관대 한 양 의 "플라즈마 '" 가스' 를 생산 하는데, 이 "가스 '는 기계 에 의하여 더욱 정련 되어 최적 의" 에칭' 과 재싱 성능 을 얻을 수 있다. Centura의 QPG (Quad Plasma Generation) 시스템은 에칭 및 애싱 프로세스가 최적의 속도, 정밀도 및 반복 가능성으로 발생하도록 도와줍니다. APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly는 제어 옵션으로 인해 다재다능한 에처/애셔입니다. 그것 은 "니켈 ', 구리," 알루미늄', 중합체 등 여러 가지 물질 을 에칭 하여 부술 할 수 있다. 또한 작업 조건 (operating conditions) 을 변경하지 않고도 피쳐의 프로파일과 형태를 변경할 수 있습니다. 이것은 에칭과 재싱을 할 때 매우 유연합니다. 이 기계는 또한 빠르고 정밀한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 을 허용하는 다양한 자동화 옵션을 가지고 있습니다. 자동/반자동 버전으로, 반복 가능한 결과로 더 빠른 운영 주기를 제공합니다. 또한, 개체 감지, 이미지 인식, 실시간 상태 업데이트 등의 소프트웨어 기능을 통해 프로세스 파악이 향상되고 프로세스 제어가 향상됩니다. Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly는 견고한 설계를 제공하며 안정성과 내구성을 위해 제작되었습니다. 동봉 된 디자인은 누출을 최소화하고 에칭/애싱 과정의 오염을 방지합니다. 또한, 부품과 컴포넌트는 품질이 높으며 지속됩니다. 따라서 대용량 및 고정밀 에칭/애싱 프로세스에 이상적입니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa T2 Poly는 정확하고 정확한 결과를 낼 수있는 안정적이고 효율적인 etcher/asher입니다. 견고한 설계 및 자동 제어 (Automated Controls) 는 안정성과 반복성을 보장하는 반면, 다양한 제어 옵션은 뛰어난 유연성을 제공합니다. 이것은 첨단 반도체 산업 응용 분야에 이상적인 선택입니다.