판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly #9353988

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly는 고급 집적 회로 (IC) 를 위해 설계된 고급 에칭 및 애싱 장비입니다. 이 시스템은 원자로 직접 웨이퍼 (wafer) 연결과 에칭 중 전체 웨이퍼 (wafer) 액세스를 제공하여 프로세스 유연성과 고급 프로세스 제어를 강화하는 완전한 기능의 시스템입니다. 이 장치는 통합 된 다중 파장 광시야기 (optical-viewing machine) 와 정교한 고정밀 동작 제어를 자랑하여 심층 서브 미콘 장치 리소그래피에 이상적입니다. 또한, AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly는 정밀한 온도 조절을위한 빠른 작동, 다중 영역 가열 플래튼과 고정밀 패턴을위한 다양한 빔 스티어링 기술을 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly에는 고급 소프트웨어 인터페이스가 장착되어 있으며, 사용자는 각 etching 또는 ashing 응용 프로그램에 대한 레시피 및 기타 중요한 매개 변수를 프로그래밍 및 저장할 수 있습니다. 이 인터페이스는 실시간 그래프 (real-time graphs) 를 사용한 공구 성능도 추적합니다. 따라서 사용자는 etching 및 ashing 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있도록 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한, 다양한 내부 측정 (in-situ measuration) 을 통해 에칭 또는 애싱 프로세스에 대한 깊은 통찰력을 제공하고 사용자가 그에 따라 레시피를 최적화 할 수 있습니다. Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly는 정밀 제어 에칭 프로세스를 사용하여 균일 한 초기 웨이퍼 프로파일과 동급 최고의 에지 품질을 보장합니다. 이 자산은 가장 진보된 프로세스에서도 구멍 (Hole) 및 기타 고급 (Fine) 기능을 통해 정확한 포지셔닝을 지원합니다. 또한, 이 모델은 200mm ~ 315mm의 웨이퍼 직경을 지원하며, 다양한 에치 가스 (etch gase) 와 완벽하게 호환되므로 어플리케이션 요구 사항에 따라 최고의 유연성을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly는 엄격한 프로세스 제어 및 깨끗한 챔버 설계 덕분에 최고 수준의 입자 제어를 제공합니다. 이 장비에는 종합적인 진공 시스템, 엄격한 기계적, 화학적 클리닝 프로세스, 조심스럽게 선택된 에칭 재료 (etching material) 가 장착되어 있어 장치 성능 및 수명이 향상되도록 최고 수준의 입자가 없습니다. 요약하자면, AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly는 고급 집적 회로용으로 설계된 최고급 에칭 및 애싱 장치입니다. 이 기계는 종합적인 프로세스 제어를 위한 통합 다중 파장 광시야각 도구, 정밀 제어 에칭, 고급 소프트웨어 인터페이스를 자랑합니다. 또한, 자산은 단단한 입자 제어를 제공하며, 다양한 에치 가스 (etch gase) 와 완벽하게 호환되므로 IC 생산에 완벽한 선택입니다.