판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 etcher는 저온에서 작동하는 가스 클러스터 이온 빔 (GCIB) 기반 에치 시스템입니다. 이 고급 장비는 고출력 플라즈마 에치 (plasma etch) 프로세스를 위해 특별히 설계되었으며, 다양한 응용프로그램이 가능하도록 에치 (etch) 구성을 완벽하게 제어할 수 있습니다. 다른 에치 기술과 비교하여 GCIB는 에지 프로파일 제어 향상, 충전 감소, 청결 향상, 균일성 향상, 손상 감소 및 보다 효율적인 에칭을 제공합니다. AMAT 8330 에처에는 400mm 공정 챔버가 있으며, 프로세스 로드 및 언로드가 용이하도록 자동 매크로 리프트가 장착되어 있습니다. 1300 와트의 RF 전력은 에칭 할 때 더 높은 처리량과 정확한 프로파일 제어를 보장합니다. 에처는 다양한 반응성 이온 에칭 (RIE) 공정에 산소, 염소, CF4 및 CHF3와 같은 광범위한 가스를 사용합니다. 프로세스 매개변수는 기체 농도, 압력, 유속, RF 전력 및 바이어스 전압과 같은 정밀도로 조정할 수 있습니다. 다재다능한 공정 기능으로 인해 APPLIED MATERIALS 8330 etcher를 사용하여 실리콘, 실리사이드, 폴리 이마이드 등과 같은 다양한 재료를 가져올 수 있습니다. 이 최첨단 장비는 칩 상호 연결 (chip interconnect), 복잡한 집적 회로 (integrated circuit) 와 같은 반도체 제조 분야에 적합합니다. 또한 결정질 SiGe, III-V 화합물, SiNx 및 질화물 기반 장치와 같은 고급 재료의 에칭에 적합합니다. 8330 etcher 는 사용자 친화적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 를 통해 프로세스를 손쉽게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 또한, 프로세스 실행 사이에 높은 수준의 청결을 유지 관리할 수있는 현장 (in-situ) 청소 시스템이 포함되어 있습니다. 이로 인해 다운타임이 줄어들고 프로세스의 안정성과 반복성이 향상됩니다. 에처 (etcher) 는 에칭 프로세스를 실시간으로 분석할 수 있는 예측 모니터링 기능도 갖추고 있어 원활한 운영 및 사용자 편의성을 극대화합니다. 결론적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 etcher는 반도체 기술 산업의 에칭 프로세스를 위해 설계된 고급 장비입니다. 이 저온 에처 (Low-temperature etcher) 는 광범위한 재료를 처리할 때 탁월한 성능, 반복 가능성 및 효율성을 제공합니다. 사용자 친화적인 인터페이스, 인사이트 (in-situ) 클리닝 시스템, 예측 모니터링 기능을 통해 원활한 운영 및 최적의 반복 기능을 활용할 수 있습니다. 따라서 AMAT 8330 에처는 다양한 플라즈마 에치 프로세스에 효율적인 솔루션을 제공합니다.