판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #293619549

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330은 PECVD (Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 기술을 사용하여 실리콘 및 기타 기판에 다양한 산화물 및 질화물 필름을 증착시키는 에처 또는 애셔입니다. AMAT 8330은 다양한 장치 및 회로 제작에 사용할 수 있도록 기능, 프로세스 균일성, 유연성의 독특한 조합을 제공하여 필름을 달성 가능한 두께 (옹스트롬의 10 분의 1 ~ 수백 나노미터) 에 형성합니다. APPLIED MATERIALS 8330은 산화물, 질화물 및 기타 박막의 정밀도, 제어 된 증착을 위해 설계되었습니다. 그것은 매우 생산적이고 이온 보조 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 소스를 가지고 있습니다. ECR 소스는 향상된 전력 밀도와 균일 한 증착률을 제공하여 8330 년 (8330) 이 여러 필름 증착을 동시에 지원할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS 8330에는 두 개의 에너지 코일 (다중 소스 ECR 기술) 이 장착되어 있어 각 기판에 최대 3.2kW의 전력을 동시에 공급할 수 있으므로 처리량이 크게 증가합니다. AMAT 8330에는 가변 압력, 가변 증착 구성 (variable deposition configuration) 이 포함되어 있어 박막 코팅 전에 기판 표면을 형성 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 최적의 필름 증착, 균일성, 속도를 위해 에칭 및 증착 프로세스를 최적화하여 제어합니다. 그 챔버는 벽 반응성 종 (wall reactive species) 과 챔버 입자 강착 (chamber particle deposition) 을 감소시켜 공정 반복성과 균일성을 더욱 향상시켰다. 환경 관리 측면에서 APPLIED MATERIALS 8330은 RoHS, REACH, SASO 등 다양한 환경 준수 표준을 충족하도록 설계되었습니다. 이 장비 는 섭씨 25 도 에서 350 도 사이 의 온도 에서 작동 하도록 설계 되어 있으며, 박막 의 증착 을 위한 탁월 한 온도 조절 을 제공 하고, 균일성 을 유지 하도록 설계 되었다. 또한, 8330 은 프로세스 레시피를 저장하고 프로세스 유연성을 높일 수 있는 다양한 추가 기능과 통합되어 있습니다 (영문). 이 시스템은 또한 AutoCAD 및 P & E를 포함한 다양한 CAD (Computer-Aided Design) 및 CAE (Computer-Aided Engineering) 시스템과 호환되므로 프로세스 레시피에 액세스하고 설계 할 수 있습니다. 결론적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS 8330은 뛰어난 박막 증착 기능, 균일성 및 제어를 제공 할 수있는 고성능 에칭 및 증착 시스템입니다. 제어 환경과 강력한 ECR 소스 (ECR source) 는 프로세스 제어를 강화하는 반면, 멀티 소스 기능은 여러 필름 증착을 동시에 가능하게합니다. 또한 AMAT 8330 은 다양한 기능과 통합되어 환경 규정 준수 및 사용 편의성을 보장합니다.