판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS 8310 #293619543

AMAT/APPLIED MATERIALS 8310 etcher/asher는 반도체 제조업체에서 사용하는 고급 에칭/애싱 도구입니다. 효과적인 프로세스 결과를 제공 할 수있는 RIE (Reactive-Ion Etching) 장비입니다. 첨단 온도 보상 (Advanced Temperation Compensation), 지능형 소프트웨어 알고리즘 (Intelligent Software Algorithm) 등 최신 기술 향상을 활용하여 반응 속도를 제어하고 효과적인 프로세스를 보장합니다. AMAT 8310 etcher/asher 시스템은 여러 구성 요소로 구성되어 있습니다. 여기에는 유도 결합 플라즈마 (ICP) 소스, 가공 인클로저, 운송 테이블 및 진공 챔버가 포함됩니다. ICPsource는 고주파 응용 전압 및 강한 자기장을 사용하여 반도체 재료의 반응성-이온 에칭을위한 플라즈마 충전 반응 챔버를 생성합니다. 처리 엔클로저는 반도체 기판의 자동 로드, 언로드, 처리를 위한 안전한 환경을 제공합니다. 수송 테이블은 에칭/애싱 프로세스 동안 기판의 정확한 정렬을 보장합니다. 마지막으로, 진공 챔버 (vacuum chamber) 는 제어 에칭 및 애싱 프로세스에 필요한 프로세스 압력을 달성하기 위해 사용됩니다. APPLIED MATERIALS 8310 etcher/asher 장치는 고급 온도 제어 기술을 사용하며 독점 대기 제어 기계 (ACS) 를 사용합니다. 이를 통해 프로세스를 균일하게 냉각시키고 핫스팟을 방지하여 프로세스 제어와 반복 (repeatability) 을 향상시킬 수 있습니다. 또한, ACS는 웨이퍼 표면의 산소 및 기타 가스 양을 줄이는 데 도움이되며, 이는 프로세스 성능 및 신뢰성에 부정적인 영향을 줄 수 있습니다. 8310 etcher/asher 도구는 응용 프로그램의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수있는 우수한 Etch/Ash 레시피를 제공합니다. 공정 제어 (process control) 기능이 정확하기 때문에, 자산은 반복 가능한 결과를 제공하고 재료 품질을 보장할 수 있습니다. 요약하면, AMAT/APPLIED MATERIALS 8310 etcher/asher 모델은 최신 기술 발전과 견고하고 신뢰할 수있는 구성 요소를 결합한 고급 장비입니다. 또한 특정한 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 탁월한 Etch/Ash 레시피는 물론, 탁월한 프로세스 제어 및 반복 기능을 제공합니다. 이러한 요인으로 인해 AMAT 8310 etcher/asher 시스템은 에칭/애싱 프로세스에서 우수한 결과를 얻으려는 반도체 제조업체에 이상적인 선택이되었습니다.