판매용 중고 ADVANCED VACUUM Vision 320 #293814704

ADVANCED VACUUM Vision 320은 최첨단 기술과 고급 기능을 결합하여 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리 할 수있는 혁신적인 에처/애셔 (etcher/asher) 장비입니다. 연구 및 산업 응용을 위해 설계된 이 시스템은 진공 환경에서 기판의 에칭 (etching), 클리닝 (cleaning) 및 표면 수정을 위한 다양한 기능을 제공합니다. Vision 320의 주요 기능 중 하나는 고성능 진공실 (vacuum chamber) 인데, 이는 깨끗하고 통제된 처리 환경을 만들도록 설계되었습니다. 이 챔버 (Chamber) 에는 초고진공 수준을 달성하고 유지할 수있는 견고한 펌핑 장치 (Pumping Unit) 가 장착되어 있어 가공 영역에서 오염 물질과 불순물이 제거됩니다. 이 진공 기능 은 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 응용 프로그램 에서 정확 하고 재현 가능한 결과 를 이루는 데 중요 하다. 이 기계는 또한 고급 가스 전달 (advanced gas delivery) 및 제어 시스템 (control system) 을 갖추고 있으며, 다양한 처리 요구에 따라 다양한 가스를 챔버에 도입 할 수 있습니다. 가스배송 (gas delivery) 도구는 정확한 흐름 속도와 혼합물을 보장하기 위해 정밀 설계되었으며, 사용자는 에칭 (etching) 또는 클리닝 프로세스를 특정 재료 요구사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 또한, 이 자산에는 가스 흐름의 실시간 모니터링 및 조정, 프로세스 제어 및 반복성 향상 등을 제공하는 대량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 가 장착되어 있습니다. ADVANCED VACUUM Vision 320에는 반응성 이온 에칭, 플라즈마 클리닝, 표면 수정 등 다양한 플라즈마 기반 프로세스에 대해 구성 될 수있는 매우 다양한 플라즈마 소스가 포함되어 있습니다. 플라즈마 소스 (Plasma Source) 는 기판 표면에서 균일 한 분포를 갖는 고밀도 플라즈마를 생성 할 수 있으므로 일관되고 균일 한 처리 결과를 얻을 수 있습니다. 더욱이, "플라즈마 '원 은 고효율 로 설계 되어, 기판 의 손상 을 최소화 하면서" 에칭' 이나 청소 속도 를 최대화 시킨다. 사용자 인터페이스와 제어 측면에서 비전 320 (Vision 320) 은 사용자에게 친숙한 소프트웨어 플랫폼을 제공하여 모델 작업을 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 소프트웨어 인터페이스 (Software interface) 는 프로세스 매개변수 설정, 프로세스 상태 모니터링, 실시간 데이터 분석을 위한 직관적인 제어 기능을 제공합니다. 또한 이 장비에는 고급 진단 도구 (Advanced Diagnostic Tools) 가 장착되어 있어 문제를 해결하고 프로세스 성능을 신속하게 최적화할 수 있습니다. ADVANCED VACUUM Vision 320 (고급 진공 비전 320) 은 다양한 기능과 확장성을 염두에 두고 설계되었으며, 사용자는 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞게 추가 액세서리와 업그레이드를 통해 시스템을 사용자 정의할 수 있습니다. 이 장치에는 로봇 로더 (robotic loader) 와 웨이퍼 매핑 (wafer mapping) 기능을 포함한 다양한 기판 처리 옵션이 장착되어 있어 여러 샘플의 처리량이 높습니다. 또한, 이 기계는 처리 된 샘플의 내부 모니터링 및 특성화를위한 다른 도구 또는 기기와 통합 될 수 있습니다. 전반적으로 Vision 320은 광범위한 연구 및 산업 응용프로그램에 탁월한 성능, 정확성, 유연성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 툴입니다. 고급 기능, 고품질 구성 요소, 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 를 갖춘 이 자산은 진공 환경에서 최적의 처리 결과를 얻을 수 있는 안정적이고 효율적인 솔루션을 제공합니다.