판매용 중고 HORIBA / JOBIN YVON UVISEL II #9038921

HORIBA/JOBIN YVON UVISEL II는 타원계 (Ellipsometer) 로, 표면에 형성된 박막의 두께와 광학적 특성을 측정하는 데 사용되는 기구의 한 유형입니다. 타원계 (Ellipsometer) 는 서피스에서 반사될 때 편광된 광원의 변화를 분석하여 사용자가 서피스의 광학 특성을 결정할 수 있도록 합니다. HORIBA UVISEL II는 회전 분석기 (rotating analyzer) 를 사용하며, 이는 입사 한 다양한 빛 파장에 걸쳐 광범위한 측정을 허용합니다. 여기에는 굴절률, 소멸 계수, 흡수 계수와 같은 광학 상수 연구가 포함됩니다. 타원계는 실리콘, 갈륨 비소 (gallium arsenide), 인화 인듐 (indium phosphide) 과 같은 반도체 기질을 포함하여 표면에 형성된 박막의 광학적 특성을 연구하기 위해 산업에서 널리 사용된다. 타원계 (Ellipsometer) 는 연구, 재료의 특성화, 제조 공정의 품질 관리에도 사용됩니다. JOBIN YVON UVISEL II에는 수직 장착 된 트윈 레이저 빔 소스를 사용하는 닫힌 광학 경로 시스템이 있습니다. 이것은 사용자에게 250 ~ 840 나노 미터 (nm) 의 다양한 입사 빛 파장에 대한 측정을 수행 할 수있는 기능을 제공합니다. 파장 범위 (wavelength range) 는 또한 사용자가 특정 레이저 각도에서 사용할 수있는 최상의 측정을 조언하기 위해 채택 될 수있다. 또한, 기기에는 샘플 표면에서 입사 레이저 빔을 사용하여 s-및 p-polarized 각도에서 측정을 제공하는 편광 분석기 (polarization analyzer) 가 포함됩니다. 이 기기는 다양한 컴퓨터 제어 옵션 (포인트, 샷 측정), 자동 샘플 교환기 (automated sample changer), 고급 프로그램 (advanced program) 을 제공하여 보다 자세한 연구를 위해 기기를 구성할 수 있습니다. 데이터는 연결된 컴퓨터를 통해 수집되며, 기기는 디지털 피드백 (feedback) 컨트롤을 통합하여 정확한 재생성을 보장합니다. UVISEL II에는 내장형 샘플 챔버 (sample chamber) 가 내장되어 있으며, 이는 온도와 습도가 제어되어 있으며, 최대 섭씨 200도까지의 실온에서 측정 할 수 있습니다. 이 기기는 또한 배경 빼기 (background subtraction) 및 배경 수정 (background correction) 측정과 호환되도록 설계되었으며, 이를 통해 측정에 대한 환경 영향을 자동으로 수정할 수 있습니다. 전반적으로 HORIBA/JOBIN YVON UVISEL II는 매우 정확하고 신뢰할 수있는 타원계로, 사용자가 표면에 형성된 박막 (thin film) 의 광학적 특성에 대한 통찰력을 얻을 수있는 다양한 측정 옵션을 제공합니다. 이 도구는 사용자 친화적이며, 사용하기 쉽고, 데이터 수집에서 높은 수준의 정확성을 제공할 수 있습니다.