판매용 중고 ULVAC Rise 300 #9351472

ULVAC Rise 300은 반도체 웨이퍼의 증착 후 열 처리를 위해 설계된 고성능, 고효율 확산로 및 액세서리입니다. 정확한 온도 및 시간 조건을 전달할 수 있으며, 멀티 스텝 어닐링 (multi-step annealing), 번 인 (burn-in), 캡슐화 (encapsulation) 등과 같은 다양한 프로세스에 적합합니다. 이 디자인에는 최고 12 인치 직경의 웨이퍼를 수용 할 수있는 탑로드 쿼츠 튜브가 포함되어 있습니다. 석영 튜브는 내구성이 뛰어난 G3 석영 재료로 만들어져 탁월한 열 안정성과 균일 한 온도 분포를 제공합니다. 용광로는 또한 실온 (1100 ° C) 의 다양한 온도 범위를 달성 할 수 있으므로 다양한 프로세스에 이상적입니다. 또한, 최상위 로더 설계를 통해 가열된 부품에 직접 액세스할 수 있으며, 탁월한 프로세스 제어 및 향상된 작업자 안전 기능을 제공합니다. 또한 Rise 300에는 동적 프로세스 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 프로세스 설정을 실시간으로 조정하는 피드백 (feedback) 메커니즘을 통합하여 프로세스 조건에 대한 세부 제어 및 재생성 향상 기능을 제공합니다. 또한 존 (Zone) 프로파일링 및 데이터 로깅 (Data Logging) 을 비롯한 다양한 프로세스 제어 기능을 통해 프로세스 조건에 대한 자세한 분석 및 최적화 작업을 수행할 수 있습니다. 또한 ULVAC Rise 300에는 사용 능률과 일관된 결과를 보장하도록 설계된 다양한 액세서리가 제공됩니다. 여기에는 웨이퍼의 적재 및 하역시 급격한 온도 안정화 용 전자기 진공 척 (electromagnetic vacuum chuck) 과 냉각판 (cooling plate), 오염 물질의 섭취를 방지하기위한 진공 밀봉 암 (vacuum sealed arm), 공정 챔버의 가스 조성을 모니터링하는 산소 분석기 (oxygen analyzer) 가 포함됩니다. 또한, 용광로 통합 압력 제어는 최적의 확산 처리를 위해 일정한 압력 대기를 제공합니다. 요약하면, 라이즈 300 (Rise 300) 은 수많은 전문 애플리케이션에 대한 정확한 온도 및 시간 요구 사항을 충족 할 수있는 고급 확산 로입니다. 다목적 설계를 통해 가열된 부품에 대한 직접 액세스, 향상된 프로세스 제어, 특수 액세서리 (specialized accessory) 등을 통해 우수한 결과를 얻을 수 있습니다.