판매용 중고 TEL / VARIAN 200SJ #293830780

TEL/VARIAN 200SJ는 반도체 제작 프로세스에 일반적으로 사용되는 고성능 확산 로입니다. 반도체 웨이퍼에서 고품질 에피 택시 레이어를 생산하는 데 정확성, 신뢰성, 다재다능성으로 유명합니다. 이 고급 용광로 장비 (Advanced Furnace Equipment) 에는 다양한 액세서리와 기능이 장착되어 있어 반도체 업계의 다양한 어플리케이션에 적합합니다. TEL 200SJ 확산 로의 핵심에는 에피 택시 층 (epitaxial layer) 의 성장을 위해 통제 된 환경을 제공하는 고온 공정 챔버 (high-temperature process chamber) 가 있습니다. 이 챔버 (chamber) 는 극한의 온도를 견디고 최적의 레이어 증착을 위해 안정적인 열 환경을 유지하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 섭씨 1200 도까지 온도에 도달 할 수 있으며, 다양한 고온 공정에 이상적입니다. VARIAN 200 SJ의 주요 기능 중 하나는 다용도 프로세스 기능입니다. 이 장치는 비소 및 인 도핑, 실리콘 에피 택시, 기타 확산 프로세스 등 다양한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이러한 유연성을 통해 반도체 제조업체는 기계를 사용자 정의하여 특정 프로세스 요구사항을 충족시키고 필름 두께 (film thickness) 와 도펀트 (dopant) 농도를 정확하게 제어하는 고품질 에피택시층 (epitaxial layer) 을 생산할 수 있습니다. VARIAN 200SJ 확산 로에는 고급 가스 전달 및 제어 시스템 (Control System) 이 장착되어 챔버 전체에서 정확하고 균일 한 공정 가스 흐름을 보장합니다. 이 정밀한 프로세스 가스 제어는 원하는 에피택시얼 레이어 특성 (epitaxial layer properties) 과 도핑 프로파일 (doping profile) 을 달성하는 데 필수적입니다. 이 도구는 가스 난류 (gas turbulence) 를 최소화하고 전체 웨이퍼 표면에서 균일 한 층 성장을 위해 효율적인 가스 혼합을 보장하도록 설계되었습니다. 고온 기능, 정확한 프로세스 제어 외에도 200 SJ 확산 로가 사용 편의성과 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 이 에셋은 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 운영자가 프로세스 매개변수를 쉽게 프로그래밍 및 모니터링할 수 있도록 합니다. 이 퍼니스에는 진단 도구와 자가 점검 (self-check) 기능이 장착되어 있어 문제 해결 및 유지 관리 작업을 원활하게 수행하므로 모델의 가동 시간과 생산성을 극대화할 수 있습니다. TEL 200 SJ 확산 로는 2 인치, 3 인치, 4 인치, 6 인치 및 8 인치 웨이퍼를 포함한 다양한 반도체 웨이퍼 크기와 호환됩니다. 이러한 유연성을 통해 반도체 제조업체는 단일 장비에 대해 여러 웨이퍼 (wafer) 크기를 처리하여 여러 도구의 필요성을 줄이고 운영 효율성을 높일 수 있습니다. 이 시스템은 또한 웨이퍼 처리 장치 (Wafer Handling Unit) 를 통해 프로세스 전반에 걸쳐 정확한 위치 지정 및 웨이퍼 처리를 보장합니다. 전반적으로, 200SJ 확산 로는 반도체 제조에서 에피 택시 레이어 성장을위한 고도로 고급적이고 다재다능한 기계입니다. 고온 기능, 정밀한 프로세스 제어, 사용자 친화적 설계를 갖춘 이 툴은 뛰어난 성능과 안정성을 자랑하는 고품질 반도체 (FMA) 장치를 생산할 수 있는 유용한 툴입니다. 연구 개발 또는 대용량 생산에 사용되든, TEL/VARIAN 200 SJ 는 광범위한 반도체 제작 프로세스를 위한 강력한 솔루션을 제공합니다.