판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT #9198280

TEL/TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT는 고출력 반도체 웨이퍼 공정 작동을 위해 설계된 확산 로와 액세서리입니다. 대량 규소 산화 (bulk silicon oxidation) 에서 고성능 재료 처리 (high performance materials processing) 에 이르기까지 생산 및 연구 용도에 적합합니다. TEL UX-11P10-4HT는 최대 4 개의 8 인치 직경 웨이퍼 또는 2 개의 12 인치 웨이퍼를 병렬로 처리 할 수있는 단일 웨이퍼 수평 확산 로입니다. 이 장비는 모듈 식 설계를 가지고 있으며, 주요 구성 요소는 웨이퍼 홀더, 히터, 가스 분배 시스템, 전원 공급 장치, 배기 장치 및 반응성 가스 제어 장치입니다. TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT의 웨이퍼 홀더에는 서셉터, 세라믹 유전체 히터 및 동력 리프트 메커니즘이 있습니다. 서셉터 히터에는 열 균일성을 개선하기위한 AlTiC 코팅 (coating) 이 있으며, 이는 확산 과정에서 전체 웨이퍼 표면에 대한 온도 균일 성을 개선 할 수 있습니다. 전원이 공급되는 리프트 메커니즘을 통해 수직의 Z축 방향으로 히터 (heater) 와 서셉터 (susceptor) 를 미세하게 조정할 수 있습니다. UX-11P10-4HT의 가스 분배기 (gas distribution machine) 는 가스 패널, 유량 미터 및 가스 라인으로 구성되며, 웨이퍼 처리 중에 필요한 가스를 도입하는 데 사용됩니다. 공구의 전원 공급 장치는 AC 전원 발전기 (power generator) 와 DC 전원 공급 장치 (power supply) 로 구성되며, 이 전원 공급 장치는 용광로의 가열 단계에 필요한 전원을 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT의 배기 자산은 웨이퍼 처리 중에 생성 된 가스를 끄도록 설계되었으며, 높은 배기 효율을 제공합니다. 모델의 가스 제어 장치 (Gas Control Unit) 에는 프로세스 요구사항을 달성하기 위해 적절한 순간에 원하는 양의 가스를 주입하는 데 필요한 컴포넌트가 포함되어 있습니다. 결론적으로, TEL UX-11P10-4HT는 인상적인 제어 및 효율성으로 반도체 프로세스 작업을 처리하도록 설계된 고 (high-throughput) 확산 로입니다. 부품의 모듈식 설계를 통해 기존 프로세스 흐름에 쉽게 통합할 수 있으며, 서셉터 히터 (Susceptor Heater) 와 가스 제어 장치 (Gas Control Unit) 를 통해 정밀한 온도 및 가스 관리를 할 수 있습니다. 이러한 기능 덕분에 TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT는 반도체 산업의 생산 및 연구 응용에 대해 안정적이고 비용 효율적인 선택이되었습니다.