판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON IW-6D #293798924

TEL / TOKYO ELECTRON IW-6D
ID: 293798924
빈티지: 2000
Diffusion furnace Process: Oxide Gases: H2, O2, HCL 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON IW-6D는 TEL에서 제조 한 확산 용광로 및 액세서리입니다. 반도체 소자 제조를위한 열 처리 및 확산 과정을위한 고효율, 고품질 퍼니스입니다. 온도 범위는 200 ° C ~ 1400 ° C이며 어닐링, 결합, SiGe 증착 및 침투에 사용할 수 있습니다. TEL IW-6D 중공 음극로가 특징이며, 고효율로 고온 반응을 부드럽고 정확하게 수행 할 수 있으며, 복잡한 확산 프로세스 시스템을 원활하게 처리 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON IW-6D는 실리콘, 게르마늄, 기타 CVD 재료, 산화물, 질화물 등 다양한 물질을 처리 할 수 있으며, 소형에서 대형의 생산 실행에 적합합니다. 매우 적응력이 높게 설계되어 다양한 프로세스 매개변수 (process parameter) 와 대기 제어 (atmosphere control) 를 사용할 수 있습니다. 또한, IW-6D 백사이드 플라텐 (IW-6D backside platen) 과 같은 다양한 액세서리를 사용하여 표면 처리가 다른 샘플의 가열 및 확산을 정확하게 제어 할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON IW-6D는 온도 경보, 잠금/비상 정지, 온도 조절 등 안전성을 높이는 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 또한 용광로 성분에서 산화물 형성을 감소시키는 독특한 가스 퍼지 시스템 (gas purge system) 이 있습니다. 또한 활성 질소 대기 조절 시스템 (Active Nitrogen Atmosphere Control System) 이 장착되어 가공하는 동안 원하는 대기가 유지됩니다. TEL IW-6D는 반도체 장치 제작 및 웨이퍼 베이크 아웃을 위한 비용 효율적인 솔루션입니다. 안정성을 위해 제작되었으며, 안전성, 정확성, 효율성 향상을 위한 다양한 기능을 제공합니다. 어닐링, 본딩, CVD 증착, 웨이퍼 베이킹 등 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 어렵고 복잡한 프로세스 시스템에 이상적인 솔루션입니다.
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