판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI #9381823
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ID: 9381823
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2012
Furnace, 12"
Process: HFSiOX
Type: LPCVD
Rapid cooling unit
Pump box
Power box
VMM-56-201 Heater
FUJIKIN Air valve
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Load lock system
GFC Display
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
(2) Boat systems KAWASAKI
Heater type:
VMM-56-201 Low temp
(4) Zones: 150°C~600°C
Furnace subsystem:
Automation system
Heater
Process chamber
Temperature controller
Scavenger
Cooling water unit
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Gas:
N2
Ar
O3
3-DMASi (Liquid)
H2O and TDMAH (Source tank)
Missing parts:
(2) Hard Disk Drives (HDD)
QUARTZ Wares
Manifold accessory
Power supply: 3 Phase, AC 480 V, Single phase, AC 120 V
2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNRRTXI는 효율적인 반도체 장치 제조를 위해 설계된 확산 용광로 및 액세서리입니다. 이 장비는 IC 처리 중에 도펀트를 에피 택시 레이어에 배치하는 데 사용됩니다. 최대 온도 균일성을 가능하게하기위한 수직 구조 (vertical structure) 와 오염을 줄이기 위해 통합 된 배기 매니 폴드 (manifold) 를 갖습니다. 이 장치에는 안전한 작동을 보장하기 위해 프로그래밍 가능한 마이크로 프로세서 및 활성 연동 시스템이 포함됩니다. TEL Indy Plus-B-MVCKNRRTXI는 반도체 제작 과정에서 효율적인 에피 택시 레이어 생산에 적합한 업계 표준 기능을 갖추고 있습니다. 새로운 최적화 된 알고리즘을 사용하여 프로그래밍 가능한 온도/시간 제어를 통해 정확성과 정확도를 극대화합니다. 다중 영역 컨트롤러 (multi-zone controller) 를 추가하여 기계의 온도 범위를 확장했습니다. 이 도구는 또한 조정 가능한 프로세스 압력을 제공하여 에피 택시 레이어 (epitaxial layer) 의 성장을 최적화합니다. TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNRRTXI 확산 로는 지속적인 소스 가스 농도를 유지하기 위해 마진 투여를 자동으로 추가하는 자동 접두사 가스 전달 자산을 갖추고 있습니다. 자동 퍼지 (automated purge) 모델은 다음 실행 전에 원치 않는 가스를 제거하여 반복 가능한 결과를 보장합니다. 또한, 실시간 가스 모니터링 및 분석 장비는 정확한 피드백 및 제어를 위해 여러 가스를 모니터링 할 수 있습니다. Indy Plus-B-MVCKNRRTXI는 직관적인 사용자 인터페이스, 프로세스 데이터 피드백, 조정 기능을 제공하여 정확한 프로세스 모니터링 및 제어를 제공합니다. 포괄적인 데이터 로깅 시스템을 통해 완벽한 추적 및 즉시 데이터를 액세스할 수 있습니다. 배치 로깅 및 통합 기능은 효율적인 데이터 관리 및 리콜 기능을 제공합니다. TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNRRTXI는 다양한 확장 카드 및 업그레이드와 호환되도록 설계되어 개인 맞춤형 구성 및 향후 확장을 지원합니다. 이 장치는 또한 안전에 대한 모든 산업 표준을 충족하며, 누수 감지 센서 (leak detection sensor) 가 내장 된 조정 가능한 공정 제어 기계를 갖추고 있습니다. TEL Indy Plus-B-MVCKNRRTXI는 효율적인 설계, 고성능, 안전 기능을 갖춘 반도체 제작 및 에피택셜 레이어 생산에 적합한 선택 사항입니다.
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