판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON DL-8P-473SDL #293772603

TEL/TOKYO ELECTRON DL-8P-473SDL은 제조 환경에서 반도체 재료의 정확하고 안정적인 열 처리를 위해 설계된 고성능 확산 용광로 장비입니다. 이 고급 시스템 (advanced system) 은 메인 퍼니스 장치 (main furnace unit) 와 액세서리 어레이 (array of accessory) 로 구성되어 있으며 반도체 제작에 필수적인 열 처리 매개변수를 정확하게 제어 및 모니터링할 수 있습니다. TEL DL-8P-473SDL의 주 퍼니스 유닛 (furnace unit) 에는 여러 개의 공정 튜브가 장착되어 있으며, 각각 동시 처리를 위해 다양한 반도체 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 이 공정 튜브는 웨이퍼 표면 전체에 걸쳐 우수한 열 안정성, 균일 한 온도 분포를 제공하는 고품질 재료로 구성됩니다. 공정 튜브 (process tube) 는 높은 작동 온도를 견딜 수 있고, 장치 내에서 처리되는 모든 웨이퍼에서 일관된 온도 프로파일을 보장하도록 설계되었습니다. TOKYO ELECTRON DL-8P-473SDL에는 방사성 가열 요소를 사용하여 반도체 웨이퍼에 균일 하고 제어 된 가열을 제공하는 정교한 가열기가 장착되어 있습니다. 이 가열 도구 (heating tool) 는 열처리 주기의 다양한 단계에서 정밀한 온도 상승 (ram-up) 및 램프 다운 속도 (rate-down rate) 를 제공하도록 조정됩니다. 고급 난방 자산 (Advanced heating asset) 은 반도체 재료의 최적의 열 처리를 보장하여 장치 성능 및 신뢰성을 향상시킵니다. 가열 모델 외에도, DL-8P-473SDL은 공정 튜브에 다양한 공정 가스 (process gase) 를 도입 할 수있는 고정밀 가스 전달 장비를 갖추고 있습니다. 이 "가스 '전달" 시스템' 은 공정 "튜브 '내 의" 가스' 흐름 속도, 조성물 및 분포 를 정밀 히 제어 할 수 있도록 설계 되어 있으며, 이것 을 처리 하는 반도체 재료 의 정확 하고 반복 가능 한 공정 조건 을 보장 해 준다. TEL/TOKYO ELECTRON DL-8P-473SDL에는 처리 주기 동안 반도체 웨이퍼의 온도 프로파일을 지속적으로 모니터링하는 최첨단 온도 모니터링 및 제어 장치가 장착되어 있습니다. 이 기계는 프로세스 튜브 내의 전략적 위치에 위치한 여러 열전대 (thermocouple) 를 갖추고 있으며, 제어 장치에 대한 실시간 온도 피드백 (feedback) 을 제공합니다. 온도 조절 도구 (temperature control tool) 는 설정 점 값 (setpoint value) 의 편차에 따라 가열 매개변수를 조정하여 모든 웨이퍼에 걸쳐 온도 프로파일의 균일성과 일관성을 보장하도록 프로그래밍됩니다. 또한, TEL DL-8P-473SDL 은 사용자 친화적이고 작동하기 쉽도록 설계되었으며, 사용자에게 친숙한 인터페이스를 통해 자산 매개변수를 직관적으로 제어하고 모니터링할 수 있습니다. 이 모델에는 기기 (overtemperature) 보호 메커니즘과 비상구조 (emergency shutdown protocol) 를 비롯한 고급 안전 (safety) 기능이 장착되어 있어 장비 안전 가동과 처리 중인 반도체 자재 보호 (protection of the semiconductor materials) 를 보장한다. 전체적으로, TOKYO ELECTRON DL-8P-473SDL 확산 용광로 장비는 대용량 제조 환경에서 반도체 재료의 열 처리를 위해 강력하고 신뢰할 수있는 솔루션입니다. DL-8P-473SDL 은 고급 기능, 정확한 온도 조절 기능, 사용자 친화적 운영 기능을 통해, 고성능 확산 용광로 및 액세서리가 필요한 반도체 제작 프로세스에 적합합니다.