판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-E #293821901

ID: 293821901
빈티지: 2000
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) furnace, 8" 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8SE-E는 고급 반도체 장치 제조를 위해 특별히 설계된 정밀 웨이퍼 처리 기술입니다. 이 시스템은 몇 가지 주요 프로세스 구성 요소를 통합하여 웨이퍼 (Wafer) 제작을 위한 포괄적이고 자동화된 처리 솔루션을 생성합니다. 반도체 소자용 고정밀도 처리 (high-precision processing) 기능을 제공하는 확산로 (diffusion furnace) 가 핵심이다. 다양한 온도에서 사용 가능하며, 높은 열 안정성, 엄격한 총 압력 제어 및 균일 한 소스 입자 밀도를 가진 부품을 구성 할 수 있습니다. 베이킹 속도와 시간은 특정 레시피와 일치하도록 미리 프로그래밍 될 수 있으며, 온도 균일 성은 ± 7 ° C (± 7 ° C) 로 유지되어 기판에 열적 그라디언트의 영향을 최소화합니다. 이 기계는 또한 차가운 벽 (cold wall) 설계를 특징으로하며, 바닥 벽을 일정한 온도로 유지하여 장기 산화 영향을 제한합니다. 또한, 퍼니스의 잘 설계된 예열은 정확한 열 프로파일을 보장하고 프로세스 가스를 예열 손상으로부터 보호합니다. TEL Alpha 8SE-E 는 TEL Alpha 8SE-E 를 통해 생산성을 극대화하고 자동화된 고품질 프로세스 결과를 제공합니다. 고성능 자동 로드 (auto-loading) 도구는 빠르고 안정적인 기판 전송을 보장하는 반면, 자동화된 ATPS (process tracking asset) 는 각 기판 프로세스 레시피와 관련된 데이터를 모니터링합니다. 이 모델에는 수직 및 측면 웨이퍼 셔틀, 베이크 플레이트 어댑터, 쿼츠 소프트웨어 홀더, 가스 생성 장비 (gas generation equipment) 및 증착 키트 도구 (최적의 성능 및 재생성을 달성하기 위해 필요) 를 포함한 다양한 액세서리가 제공됩니다. 또한, 장비의 설계는 ISO 인증 클린 룸/ISO-600 인증을 갖춘 1 층 (1 층) 구성을 기반으로 하여 비용 효율성을 높이고 유지 보수 및 수리를 용이하게 합니다. TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-E는 최고 품질의 반도체 장치를 생산하기위한 효율적이고 자동화된 확산 광로 기반 프로세스 시스템을 제공합니다. 강력한 구성 요소, 자동 제어 장치 (Automated Control Unit) 및 액세서리는 안정적인 장치 제작에 필요한 안정성과 다용성을 제공합니다.
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