판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9245683
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판매
ID: 9245683
빈티지: 2000
Furnace
Layout type: U/Box type (L)
System hand: LL
N2 Load lock
Heater type: WMM-40-101 Mid temperature
Torch heater
TEL Integrated SMIF
Process gasses:
Gas 1: N2 (20 SLM)
Gas 2: N2 (5 SLM)
Gas 3: N2 (1 SLM)
Gas 4: NH3 (2 SLM)
Gas 5: DCS (200 SCCM)
Gas 6: O2 (2 SLM)
Gas distribution system:
Basic style: Conventional gas system
Tubing material: Stainless system
Electro-polished tube
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air operated valve
MFC: AERA
Wafer / Cassette handling:
Wafer type: 8" Semi STD-Notch
Cassette type: ENTEGRIS / XT200-01E
(25) Cassette wafers
(16) Cassette storage
1+4 Fork type / Material
Fork variable pitch
Boat / Pedestal:
(150) Production wafers
Boat rotation
System controller: TS-4000Z
Signal tower
General pressure display unit: Pressure Mpa
Cabinet exhaust display unit: Kpa
Furnace temperature controller: M121
Power supply:
Voltage:
208 VAC at 3 Phase
120 VAC at 1 Phase
UPS Input / Output voltage: 120 V / 100 V
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S 확산 퍼니스는 반도체 제조를위한 최첨단 도구입니다. 광범위한 기능을 통해, 고급 온도 균일성과 균질성을 제공하여, 정확한 반도체 처리를 가능하게 합니다. TEL ALPHA-8S는 LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 RPCVD (Rapid Pressure Chemical Vapor Deposition) 모드에서 작동 할 수 있습니다. LPCVD 모드에서 웨이퍼의 균일성은 ± 0.5 ° C이며, 뛰어난 반복성과 저온 그라디언트를 제공합니다. RPCVD 모드에서 웨이퍼 간 균일성은 ± 0.2 ° C이며, 보다 정확한 제어를 제공합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S는 또한 150 ° C ~ 1050 ° C의 다양한 온도를 특징으로하며 다양한 프로세스를 허용합니다. 균일 성 외에도 ALPHA-8 S는 빠른 온도 램프 시간도 제공합니다. 핫월 설계는 빠른 가열 및 냉각을 위해 큰 대류 셀 (convection cell) 을 제공하여 빠른 처리 속도를 제공합니다. 알파 8S (Alpha 8S) 는 60 초 이내에 목표 온도에 도달 할 수 있으므로 챔버를 수동으로 식힐 필요가 없습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S는 반도체 제조를 용이하게하기 위해 다양한 액세서리를 제공합니다. 여기에는 고압 또는 저압 가스 매니 폴드 시스템, 쿼츠 압력 챔버, LPCVD 반응 탱크 및 뜨거운 표면과의 접촉을 피하기 위해 쿼츠 머플 시스템이 포함됩니다. 또한 ALPHA 8 S에는 반응물 가스를 시스템에 도입하기위한 가스 타이트 피드 스루가 있습니다. 이것은 최대 55cmand 압력의 최대 10 bar의 반응 속도를 가능하게합니다. 또한 TEL Alpha 8S 는 자동 웨이퍼 처리 시스템을 통해 로드 및 언로드 프로세스 속도를 높입니다. 이 시스템은 간단하고 반복 가능한 웨이퍼 로딩 및 언로드를 위해 사전 자동화 된 핸드가있는 로봇 암 (robotic arm) 으로 구성됩니다. TOKYO ELECTRON Alpha 8S는 정확하고 효율적인 반도체 처리에 이상적인 도구입니다. 온도가 빠른 램프 (ramping time) 와 함께 뛰어난 온도 균일성과 균질성을 제공하며, 안정적이고 제어된 반도체 제조를 위해 강력한 액세서리를 선택할 수 있습니다.
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