판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9060562

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ID: 9060562
Vacuum anneal furnace, 8" 8" Interface cassette Through wall installation H2 and N2 Anneals Brooks 5964 MFCs MFC 1 - N2 10 slm MFC 2 - N2 10 slm MFC 3 - H2 5 slm MFC 4 - H2 10 slm MFC 5 - H2 5 slm (2) Hydrogen detectors (100) Wafer loads 1200C Heat range core Rapid cool Lipseal, Inner T/C, linear aligner up / down axis side motions No variable pitch: Single or (5) wafer 16" Process tube TS-4000Z Controller Temperature controller: Model 121 Boat, CLN OX - 07-00202 Cover pedestal - 07-00204 Pedestal - 07-00205 PFA tube (6.35x4.35x1.0T) 3 Phase Voltage: 208V Direction: Left Load station: (2) I/O Ports (2) Cassette arms SMIF Loader: No N2 Purged loadlock: No WIP Carrier storage capacity: 8 End effector: 1 or 5, Fixed pitch Wafer spacing: Fixed Boat rotation: No Furance: (5) Zones Heater type: VMM-35-001 Rapid cooling configuration: No Tube seal configuration: O-ring Temperature control methodology: PID Thermocouple: Type R External torch: No H2 Burn off: No Bubbler system: No Gas leak detection: Yes (H2 and O2) Moisture sensor: No Process gases (atmospheric): N2, H2 MFC1 Model / type: Brooks 5964 Process gases: N2 Flow rate: 20 SLM MFM1: Model / type: Brooks 5964 Process gases: N2 Flow rate: 10 SLM MFC2 Model / type: Brooks 5964 Process gases: H2 Flow rate: 5 SLM MFC3 Model / type: Brooks 5964 Process gases: H2 Flow rate: 10 SLM MEC4 Model / type: Brooks 5964 Process gases: H2 Flow rate: 5 SLM Process pressure control system: Vacuum pump: EDWARDS QDP80 Pressure controller: VARIAN LR300 Process manometer: MKS 625A 100 Pressure differential manometer: MKS 625A 1000 Inline cold trap: No Inline particle trap: No Manuals.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S는 MEMS, 반도체, 평면 패널 디스플레이 및 금속 산화물 생산을 위해 설계된 고성능 확산 용광로 장비입니다. 고급 열 처리 매개변수에 최적화되어 자동화된 다단계 공정을 갖춘 자체 포함 퍼니스 챔버 (furnace chamber) 가 있습니다. 컴퓨터 제어 프로세스를 사용하여 용광로 챔버 (furnace chamber) 의 모든 가열 및 냉각 작업을 제어합니다. TEL ALPHA-8S에는 수작업 및 자동 도마뱀, 적외선 방출 장치, 가변 공기 냉각 및 기타 고급 프로세스 설정이 적용되었으며 TEL 특허를받은 '론 비콘 (Lone Beacon)' 난방 시스템이 장착되어 RF 에너지를 챔버로 안내하여 빠르고 정확하게 가열하거나 식힙니다. 목표 하중. 특정 응용 프로그램 요구 사항에 따라 온도, 시간, 압력, 대기 가스와 같은 다양한 프로세스 변수를 조정할 수 있습니다. 이 최첨단 기술은 중요한 열 처리 (thermal processing) 어플리케이션에 탁월한 성능을 제공하므로 고수율 (high yield) 및 고정밀도 (high-precision) 결과를 위한 고급 프로세스 설정을 활용할 수 있습니다. 도쿄 전자 알파 8 S (TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S) 는 유해한 가스와 공기 매개 입자를 제거하는 통합 배기 장치를 가지고 있으며, 금속-산화물 및 실리콘 웨이퍼 처리를 포함한 다양한 공정 응용을 수용하기 위해 조절 가능한 기능을 갖추고 있습니다. 알파 8 S (ALPHA 8 S) 는 가장 안정적이고 효율적인 시스템 중 하나이며 100% 테스트 적용 범위를 통해 탁월한 품질의 결과를 제공합니다. 온도 균일성은 벤치 마크 설정 수준이며, 0.01 kPa 해상도의 정확한 압력 조절뿐만 아니라 +/- 5 ° C에 도달합니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 쉽게 배우고 활용할 수 있으며, 디지털 컨트롤을 통해 프로세스 최적화를 쉽게 수행할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S는 또한 오픈 터치 인터 록, 과도한 온도나 압력이 감지 될 때 자동 종료, 자동 모니터링 된 난방 및 냉각 사이클링 등 다양한 안전 기반 기능을 제공합니다. 이 다용도 기계 는 엄격 한 산업 표준 을 충족 시키도록 설계 되었는데, 이 기계 는 고급 열 처리 장치 (advanced thermal processing) 에 이상적 인 선택 이 되었다.
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