판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9060562
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ID: 9060562
Vacuum anneal furnace, 8"
8" Interface cassette
Through wall installation
H2 and N2 Anneals
Brooks 5964 MFCs
MFC 1 - N2 10 slm
MFC 2 - N2 10 slm
MFC 3 - H2 5 slm
MFC 4 - H2 10 slm
MFC 5 - H2 5 slm
(2) Hydrogen detectors
(100) Wafer loads
1200C Heat range core
Rapid cool
Lipseal, Inner T/C, linear aligner up / down axis side motions
No variable pitch: Single or (5) wafer
16" Process tube
TS-4000Z Controller
Temperature controller: Model 121
Boat, CLN OX - 07-00202
Cover pedestal - 07-00204
Pedestal - 07-00205
PFA tube (6.35x4.35x1.0T)
3 Phase
Voltage: 208V
Direction: Left
Load station:
(2) I/O Ports
(2) Cassette arms
SMIF Loader: No
N2 Purged loadlock: No
WIP Carrier storage capacity: 8
End effector: 1 or 5, Fixed pitch
Wafer spacing: Fixed
Boat rotation: No
Furance:
(5) Zones
Heater type: VMM-35-001
Rapid cooling configuration: No
Tube seal configuration: O-ring
Temperature control methodology: PID
Thermocouple: Type R
External torch: No
H2 Burn off: No
Bubbler system: No
Gas leak detection: Yes (H2 and O2)
Moisture sensor: No
Process gases (atmospheric): N2, H2
MFC1 Model / type: Brooks 5964
Process gases: N2
Flow rate: 20 SLM
MFM1: Model / type: Brooks 5964
Process gases: N2
Flow rate: 10 SLM
MFC2 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 5 SLM
MFC3 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 10 SLM
MEC4 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 5 SLM
Process pressure control system:
Vacuum pump: EDWARDS QDP80
Pressure controller: VARIAN LR300
Process manometer: MKS 625A 100
Pressure differential manometer: MKS 625A 1000
Inline cold trap: No
Inline particle trap: No
Manuals.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S는 MEMS, 반도체, 평면 패널 디스플레이 및 금속 산화물 생산을 위해 설계된 고성능 확산 용광로 장비입니다. 고급 열 처리 매개변수에 최적화되어 자동화된 다단계 공정을 갖춘 자체 포함 퍼니스 챔버 (furnace chamber) 가 있습니다. 컴퓨터 제어 프로세스를 사용하여 용광로 챔버 (furnace chamber) 의 모든 가열 및 냉각 작업을 제어합니다. TEL ALPHA-8S에는 수작업 및 자동 도마뱀, 적외선 방출 장치, 가변 공기 냉각 및 기타 고급 프로세스 설정이 적용되었으며 TEL 특허를받은 '론 비콘 (Lone Beacon)' 난방 시스템이 장착되어 RF 에너지를 챔버로 안내하여 빠르고 정확하게 가열하거나 식힙니다. 목표 하중. 특정 응용 프로그램 요구 사항에 따라 온도, 시간, 압력, 대기 가스와 같은 다양한 프로세스 변수를 조정할 수 있습니다. 이 최첨단 기술은 중요한 열 처리 (thermal processing) 어플리케이션에 탁월한 성능을 제공하므로 고수율 (high yield) 및 고정밀도 (high-precision) 결과를 위한 고급 프로세스 설정을 활용할 수 있습니다. 도쿄 전자 알파 8 S (TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S) 는 유해한 가스와 공기 매개 입자를 제거하는 통합 배기 장치를 가지고 있으며, 금속-산화물 및 실리콘 웨이퍼 처리를 포함한 다양한 공정 응용을 수용하기 위해 조절 가능한 기능을 갖추고 있습니다. 알파 8 S (ALPHA 8 S) 는 가장 안정적이고 효율적인 시스템 중 하나이며 100% 테스트 적용 범위를 통해 탁월한 품질의 결과를 제공합니다. 온도 균일성은 벤치 마크 설정 수준이며, 0.01 kPa 해상도의 정확한 압력 조절뿐만 아니라 +/- 5 ° C에 도달합니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 쉽게 배우고 활용할 수 있으며, 디지털 컨트롤을 통해 프로세스 최적화를 쉽게 수행할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S는 또한 오픈 터치 인터 록, 과도한 온도나 압력이 감지 될 때 자동 종료, 자동 모니터링 된 난방 및 냉각 사이클링 등 다양한 안전 기반 기능을 제공합니다. 이 다용도 기계 는 엄격 한 산업 표준 을 충족 시키도록 설계 되었는데, 이 기계 는 고급 열 처리 장치 (advanced thermal processing) 에 이상적 인 선택 이 되었다.
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