판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S-ZV #9227412

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S-ZV는 고급 반도체 장치 생산을 위해 설계된 액세서리가있는 확산 로입니다. 장비는 플랫폼 베이스와 흑연 서셉터 (graphite susceptor) 로 구성됩니다. 기지 양쪽 에 "서셉터 '를 위아래로 들어 올리는 두 개 의" 모우터' 가 있다. 서셉터 (susceptor) 는 원형 형태로 형성되어 웨이퍼에 균일 한 가열이 가능합니다. 그것은 강제 공기 순환을 사용하여 전체 표면적에서 동일한 온도를 보장합니다. 게다가, 이 "시스템 '에는" 서셉터' 의 온도 측정 과 난방 속도 조절 을 위한 광학 "피로미터 '가 들어 있다. TEL ALPHA-8S-ZV에는 최대 20 개의 웨이퍼를 수용 할 수있는 큰 공정 챔버가 있습니다. 외부 에서 오염 물질 로부터 장치 를 보호 하기 위하여, 그것 은 특수 "실링 '기계 를 가지고 있다. 이 밀봉 도구 (sealing tool) 는 웨이퍼가 먼지 입자를 깨끗하게 유지하여 정확한 제조 공정을 가능하게합니다. 또한, 온도 범위는 최대 1100 ° C이며, 다양한 에칭 및 어닐링 프로세스를 허용합니다. 이 자산에는 자동 클리닝 사이클 (auto-cleaning cycle) 이 장착되어 있어 웨이퍼를 오염시킬 가능성을 더욱 줄이기 위해 정기적으로 수행 할 수 있습니다. 운영 중 안전을 보장하기 위해 TOKYO ELECTRON ALPHA 8S ZV에는 연동 모델이 제공됩니다. 이 기능은 뚜껑이 열려 있는 동안 용광로 (furnace) 의 우발적 활성화를 방지하기 위해 사용되며, 이는 사용자가 어떤 피해로부터 보호합니다. 용광로 뚜껑에 융합 된 실리카 (silica) 창을 사용하면 가열 과정에서 웨이퍼를 시각적으로 모니터링 할 수 있습니다. 이 확산 로에는 전력 소비량 및 배출량을 줄이기 위한 다양한 최첨단 (최첨단) 기능이 있습니다. 대부분의 시스템은 순수한 질소를 캐리어 가스로 사용하지만 TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8S-ZV는 산소, 아르곤 및 아르곤-산화물과 같은 가스의 조합을 사용합니다. 이것 은 오염 물질 을 감소 시키며, 수술 에 필요 한 "에너지 '의 양 을 최소화 시킨다. 또한, 장비는 공정 (process) 과 배기 챔버 (exhaust chamber) 모두에서 고른 온도 프로파일을 보존하도록 설계되었습니다. 이것은 핫스팟의 혁신을 방지하여 생산량 및 품질이 향상됩니다. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S ZV는 반도체 산업에서 사용되는 주요 확산 로 중 하나입니다. 최첨단 기술을 생산할 수 있는 안정적이고 정교한 시스템을 제공합니다 (영문). 안전성, 낮은 배출량, 뛰어난 온도 조절 (Temperature Control) 기능을 통해 안정적인 생산으로 이익을 극대화하려는 모든 회사의 완벽한 선택입니다.